格芯加深與Everspin合作,將聯發開發的STT-MRAM擴展至12 nm FinFET

與非網 3 月 16 日訊,格羅方德與 Everspin 兩家公司合作歷史悠久,從最早的 40nm 的量產工藝,然後擴展到 28nm HKMG 和 22nm FD-SOI(22FDX)。

近日,雙方宣佈已將聯合開發的自旋轉矩(STT-MRAM)器件的製造,擴展至 12 nm FinFET 平臺(簡稱 12LP)。

格羅方德通過這項合作能夠利用已被廣泛採用的 12nm 工藝來生產單獨的 MRAM 芯片、或將之嵌入其它通過 12LP 技術製造的產品。如今,格羅方德已能夠製造嵌入式的非容失性磁性隨機存儲器(eMRAM)。而 Everspin 單獨的 256 Mb 和 1 Gb MRAM 器件,亦可通過 40 nm 和 28 nm 工藝量產製造。

格芯加深与Everspin合作,将联发开发的STT-MRAM扩展至12 nm FinFET

通過將 STT-MRAM 縮小至 12 nm 製程,有助於雙方進一步拉低 1 Gb 芯片成本。以經濟高效的方式,生產更高容量的設備。儘管現有的 MRAM 芯片無法提供巨大的容量,但其在特定領域的應用仍相當受歡迎。Everspin 表示,該公司已向超過 1000 個客戶出貨 1.25 億個單獨的 MRAM 芯片。

此外,引用該公司的一份報告:到 2029 年,單獨的 MRAM 器件銷售額將達到 40 億美元。隨著對大容量 MRAM 產品需求的不斷擴展,未來還需要用到更先進的工藝。格羅方德在其 12LP 平臺(包括 12LP+)中增加了對 eMRAM 的支持,可極大地提升該製程節點的競爭地位,尤其是未來幾年發佈的主控 / 微控制器應用領域。

比如,群聯(Phison)和華瀾微電子(Sage)即將推出的一些企業級 SSD 主控,就會採用 Everspin 的 eMRAM 方案,而不是單獨使用該器件。eMARM 有望取代當前普遍採用的嵌入式閃存(eFlash),以克服 NAND 存在的耐久度和性能等問題。

作為一種磁性存儲元器件,MRAM 能夠感測由薄壁隔開的兩個鐵磁膜的各向異性。由於不使用電荷或電流,其能夠在現代製程節點的幫助下,實現更優秀的性能和耐久度。儘管 eMRAM 仍有其侷限性,但在其它技術出現之前,這種兼顧靜態(SRAM)和動態(DRAM)隨機存儲器特性的高度集成產品,仍然能夠在未來幾年內被各個廠商欣然應用於諸多設備。

格羅方德半導體股份有限公司(Global Foundries)是一家總部位於美國加州硅谷桑尼維爾市的半導體晶圓代工廠商, 成立於 2009 年 3 月 。格羅方德半導體股份有限公司由 AMD 拆分而來、與阿聯酋阿布扎比先進技術投資公司(ATIC)和穆巴達拉發展公司(Mubadala)聯合投資成立的半導體制造企業。

Everspin 是從飛思卡爾半導體公司分離出來的一家獨立公司。公司總部與晶圓廠均設於美國亞利桑那州錢德勒(Chandler)市。2006 年,Everspin 推出業界第一款商業化 MRAM 產品,同時是全球第一家量產 MRAM 的供貨商。今日,Everspin 目前的產品組合中擁有廣泛的 MRAM 產品線,這些 MRAM 密度從 512kb 到 16Mb,並提供串行和並行運算方式,已廣泛用在數據存儲、工業自動化、遊戲、能源管理、通訊、運輸、和航空電子領域。


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