我在問答上看到“中國企業可否自研光刻機？”我就直接想給懟回去，“都什麼年代了？2020年了，2016年我國就開始研製光刻機了。”
不過，在研製的過程中確實很艱難，光刻機代表著一個國家的科技水平，西方國家一直對我們進行封鎖，這是大家都知道的。
要知道，誰掌握了光刻機的研發技術，誰就有話語權。
我國清華團隊豪邁的向世界宣佈，已經成功研製出雙工作臺光刻機，讓國人感到萬分的驚喜和自豪，光刻機是芯片製造的最大困難課題，只要這道難題攻克了，就剩下光源和鏡組的課題需要攻克了。中國終於擁有自己光刻機了，也終於不用再尖端科技受制於人的尷尬和無奈了。期待“中國芯”騰飛時刻早日到來！
雙工作臺意味著比以往的光刻機個先進，工作效率更高。現在我國已經研製出9納米光刻機，與世界一流還有一定的距離，不過我們高興地看到，有9納米墊底，7納米，5納米還遠嗎？
更為可喜的是，我國已經掌握了硅-石墨烯-鍺材料技術，這種材料可刻制2納米1納米甚至皮米級的芯片。更加厲害的是，這種材料提高了以往硅的延遲性的1000倍。
相信不遠的將來，我國依賴進口芯片的局面將會徹底改變。
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