中微7納米蝕刻機受關注,國產半導體設備困境如何解?

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隨著《大國重器》熱播,很多人才知道,我們在芯片製造上的某一項技術竟然達到了世界前列---7nm蝕刻機。並已被臺積電採購使用。

雖然說中微半導體能生產7nm蝕刻機,但並不是說我們就能生產7nm芯片。芯片製造涉及一整套流程,這一整套流程裡面都需要相應的設備,除了蝕刻機,還有一個最關鍵的光刻機。目前最先進的光刻機掌握在荷蘭的ASML,此前還有尼康佳能競爭一下,現在尼康佳能也競爭不過。

我們自主的光刻機暫時還停留在90納米上,由上微生產。所以巧婦難為無米之炊,光有先進的蝕刻機也不行。不過在4月份中芯國際花費1.2億美元向ASML訂購了一套極紫外(EUV)光刻設備。預計在2019年初交付。購買EUV設備的意義在於希望縮小與國外領先技術的差距。

目前中芯國際最先進的製程是28nm,有供應鏈在6月披露,中芯國際14納米FinFET製程已接近完成研發,計劃在2019年量產。如果中芯國際14納米量產順利,那麼離臺積電、三星、GF等老牌半導體的7納米還差足足兩個世代。

差距雖遠,做為國人都希望我國半導體技術撂翻那些半導體巨頭。不過現實擺在眼前,飯還是要一口一口吃,各種原因導致的差異也不是一天兩天就能追趕而上。也請多給點耐心,路還很長。沒有跨步就永遠沒有追趕的機會。

△中國製造2025,十三五規劃綱要和政策目標。


阿呵IT數碼


大國重器,贏在互聯,不錯,中華民族迎來了全面的崛起…

想當年,中微團隊的帶頭人尹志堯毅然決然的放棄放棄美國的企業的高薪厚遇,帶著滿腔愛國熱情,組成了中微半導體公司,只用三年時間就研發出12英寸晶圓刻蝕機。世界震驚,而今年又中標臺積電7英寸的刻蝕機也算獨顯鰲頭技術難得…

縱管國內半導體行業,起步晚,高新人才短缺失,技術設備較差。加大人才培養是根本,加大自己核心技術儲備,發展半導體的同時,設備重點是加大研發。美國小一點的芯片企業,年年都是上億美元的投,而我國千萬美元都不一定到。我國生產的芯片九牛一毛,差不多都是進口的,每年要進口2000億美元的花費比石油和糧食還多。所以我們自己生產已是刻不容緩…

我們目前應用的二線產品,三線產品能夠滿足一般應用,只是缺口太大,而且五花八門,各做各的,沒有統一的規劃,浪費了資源,浪費著錢財,比如今天我研究電容,你研究電阻;等我電容弄好,你電阻也弄好;然後我再去研究電阻,你在研究電容。兩者就是重複研究,費時費力還影響發展的腳步

如果把單打,換成雙打。進度會增加一般,取長補短,集中優勢,資源共享,效率會巨大增加

以現在的發展效率,全方位,整體推進,補足中低端產品的短板,大力推廣。讓產品全面開花。順勢追趕還要幾年的代差

中國的刻蝕機已經量產,再若有光刻機的研發,相信三年四年的時間自己就可以投產7納米技術的芯片了。那時候也許扔然落後,但可是奇蹟般的進步了,芯片企業也能夠更多的自給了


力通科技論壇


半導體芯片生產是先由光刻機在晶元上繪圖,再由蝕刻機蝕刻電路,蝕刻機國內已有7納米生產能力,而光刻機由於天價研發經費和高技術門檻,全球僅剩荷蘭一家企業在生產及研發,雖然沒有對中國實行技術設備封鎖,但面對全球眾多采購者及一年量產十幾臺設備現狀,將中國提貨日排在最後,嚴重製約了我國半導體產業發展規模,另一方面,由於國內半導體企業追求效益、為減少故障率又不願使用國產光刻設備,導致國內光刻技術不能在應用中完善,光刻技術本來就差距很大,缺乏應用經驗反饋,技術追趕步伐緩慢!面對光刻機技術落後這難以跨越又必須跨越的障礙!首先從國家戰略層面引起高度重視,面對現實,加大人才培養,完善產品研發條件及模擬應用環境建設,促進光刻技術穩健快速趕超,其次利用荷蘭光刻機生產企業新技術研發經費不足,組織資金投資,既能確保最新技術設備早出早提,早日實現芯片國產化,又能瞭解最先進光刻機技術研發狀態!側面助力國產技術研發速度!


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大國重器,贏在互聯,不錯,中華民族迎來了全面的崛起…

想當年,中微團隊的帶頭人尹志堯毅然決然的放棄放棄美國的企業的高薪厚遇,帶著滿腔愛國熱情,組成了中微半導體公司,只用三年時間就研發出12英寸晶圓刻蝕機。世界震驚,而今年又中標臺積電7英寸的刻蝕機也算獨顯鰲頭技術難得…

縱管國內半導體行業,起步晚,高新人才短缺失,技術設備較差。加大人才培養是根本,加大自己核心技術儲備,發展半導體的同時,設備重點是加大研發。美國小一點的芯片企業,年年都是上億美元的投,而我國千萬美元都不一定到。我國生產的芯片九牛一毛,差不多都是進口的,每年要進口2000億美元的花費比石油和糧食還多。所以我們自己生產已是刻不容緩…

我們目前應用的二線產品,三線產品能夠滿足一般應用,只是缺口太大,而且五花八門,各做各的,沒有統一的規劃,浪費了資源,浪費著錢財,比如今天我研究電容,你研究電阻;等我電容弄好,你電阻也弄好;然後我再去研究電阻,你在研究電容。兩者就是重複研究,費時費力還影響發展的腳步

如果把單打,換成雙打。進度會增加一般,取長補短,集中優勢,資源共享,效率會巨大增加

以現在的發展效率,全方位,整體推進,補足中低端產品的短板,大力推廣。讓產品全面開花。順勢追趕還要幾年的代差

中國的刻蝕機已經量產,再若有光刻機的研發,相信三年四年的時間自己就可以投產7納米技術的芯片了。那時候也許扔然落後,但可是奇蹟般的進步了,芯片企業也能夠更多的自給了


≒蕜傷→洎欺


中國半導體產業能力的主要瓶頸,正在於工藝和材料,在設計能力上,已經離第一梯隊並不是那麼遙遠了,在實驗室裡不乏據有創新精神和良好性能的產品,但是,一旦面對商用和量產,就會出現從材料到工藝上的多重差距,也就是說,在整個半導體產業鏈上,受制約的環節比較多。除了設計能力外,目前,通過技術追趕和引進消化,在封裝上已經距離第一梯隊差距縮小。半導體晶元的材料製備能力也通過這兩年的投入正在加緊追趕,如臺積電在南京投資的16納米制程12寸晶元生產線等的量產。這次中微的蝕刻機,代表這些年生產工藝的追趕又取得了重要突破。

另外,在光刻機的研發上,也一直在努力。但是這個設備是半導體生產鏈上最高尖端的部分,難度很大,算是芯片製造核心中的核心,光刻是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟,耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在於將電路圖從掩模上轉移至硅片上,這一過程通過光刻來實現,光刻的工藝水平直接決定芯片的製程水平和性能水平。芯片在生產中需要進行 20-30 次的光刻,耗時佔到 IC 生產環節的 50%左右,佔芯片生產成本的 1/3。

據報道,上海微電子已經具有成熟的90納米光刻機設計生產能力,雖然這個製程距離最新制程還有很大距離,但也代表我們和世界的差距並不是有和沒有的鴻溝。相信通過我們越來越多的關注、投入和深研,在理論、材料、工藝和設備上,會慢慢縮小與世界先進水平的差距,在戰略上消除被動局面,在產業鏈上構建自主體系。


天下事老實說


中微7nm的刻蝕機的量產,中微成為了第五個量產7nm刻蝕機的企業,同時標誌著我國半導體行業又一領域進入世界先進行業。

然而我國半導體設備一直處於兩個尷尬局面,一是一部分不算差的設備沒有人用,二是一部分設備技術差距大,只能依靠進口,比如光刻機。

國產設備為什麼沒有人用

當前國產一部分半導體設備技術方面不差,價格甚至更加便宜,但是國內生產企業就是不願意採用,因為廠商考慮到的第一要務是利益,國內半導體設備起步晚,設備不夠成熟,所以國內生產企業要採取最安全的方式,降低生產風險,這就導致了國產設備生產出來,賣不出去,也就沒有發現問題改進問題的機會。



解決辦法

  1. 技術的積累和人才的培養,高端半導體設備一昧的依賴進口是行不通的,最近的制裁事件也表明必須要有自己的技術,不然就只能捱打,我國半導體行業起步晚,與國外有著明顯的差距,在依賴進口的狀況暫時無法改變的局面下,要大力培養自己的人才,加大研發投入加速技術積累才是正確的方法。

  2. 大部分國內半導體設備製造廠商都是做國外先進設備的替代品,這就相當於在市場上與其正面衝突,價格方面的優勢並不能使你的競爭力上升,成熟可靠的技術才是第一競爭力,所以國內廠商應該多做自己的東西,用新興設備避開正面競爭,開拓自己的市場。

  3. 目前國內半導體廠商多單打獨鬥,並且半導體行業作為一個需要長期投入,互相合作的行業,導致競爭力低下,因此國內各半導體廠商應該加強合作與整合,進行資源共享,提高資產利用率,只有這樣才能提高競爭力,與國外廠商抗衡。
國內半導體廠商在發展自身的同時,要正確認識到技術積累和知識產權的重要性,只有這樣中國的半導體行業才能取得長足的進步。

如鯨向海鳥投林


光刻機的複雜程度要遠遠高於蝕刻機,而生產晶元兩種機器都要用到,基本步驟如下:晶元上面塗一層光刻膠,光刻機把光照到的地方侵蝕掉,然後浸泡到化學溶液裡面,通過蝕刻機把沒有光刻膠圖層保護腐蝕掉,晶元就會形成想要的形狀。中微的是蝕刻機,我們的光刻機與世界發達水平還差很多,由於《瓦森納協定》存在,我們無法進口最先進的光刻機,要改變現狀我認為,放棄幻想大量投入資金研發,扶持國內研發企業,用國家意志攻克技術難關,等我們接近世界水平的時候,任何協定都是一紙空文,國際壁壘也土崩瓦解。


郭勇


恭喜恭喜,像蝕刻機、芯片設計、c919飛機、AI芯片、移動手機系統、PC電腦系統、航天航空、導航系統、生物製藥、醫療設備、儲存內存、高端機床、造船業、屏幕製造、等等高端未來產業有那個過國家都做了,雖然現在還達不到頂尖水平,但是我們以經有了,超越是遲早的事,像我95後也一樣對未來有夢想有信心有好奇心,所以說我們再接再厲,一定會達到頂尖行列,革命尚未成功,同志仍需努力,不忘恥辱,以報祖國,未來還我中華繁華盛世,太平強大的天下,為全人類某福利,未來我很期待……


追夢族35912561


相比較而言是落後的困境,擺脫目前地困境還可以謀劃,這需要幾代人真心實意的去努力,但是想擺脫與發達國家之間差距太大的困境並且想趕上和超過了,那就不是說話那麼容易了,你在極度落後的狀況下發展,可人家在極度發達中發展,這樣大地懸殊差距是一個什麼概念?不像有的人以“彎道超車“地童話那麼信口開河輕而易舉,因為科學的問題是一個知識的問題,來不得半點兒虛偽和驕傲,胡言亂語吹牛B瞎扯淡解決不了問題,人的基本素質很重要,整體技術素質也很重要,體制環境地優劣很重要,


用戶72607079029


消息屬實的話,首先恭喜中微,半導體制造需要近千道工藝,分數不同機臺,刻蝕也有幾十步,刻蝕的材料不一,需要不同的刻蝕機臺,對機臺要求也就不一樣,如果是最重要層的機臺的確可喜可賀。我們拭目以待。


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