音你而心動
據光電所該項目的一個主要負責人所說，這臺設備只是個原理機，跟市場上主流的ArF浸沒式光刻機在視場、成品率、套刻精度以及產率等方面都沒有可比性。該設備用於半導體芯片領域以替代投影光刻的可能性也是幾乎沒有的，但可以用於半導體芯片以外用不起投影光刻的納米加工。這臺樣機設備可以對小批量、小視場（幾平方毫米）、工藝層少且套刻精度低、低成品率、小襯底尺寸（4英寸以下）且產率低（每小時幾片）的特殊納米器件進行加工。
雖然這臺設備只是一臺原理機，在技術上還存在著侷限，但對中國科研界來說的確是個重大進展。考慮到目前表面等離子體技術的水平，這臺設備只可能做週期的線條和點陣，無法制作複雜的芯片所需的圖形。以光電所現有的技術實力，芯片製造所需的超高精度對準技術，亦是無法實現的。所以，在短期內，這項技術是無法應用於半導體芯片製造的；現階段的應用前景僅限光柵、光子晶體一類的週期性結構；不過這些器件本身也已相當重要，尤其在軍事應用領域。
以上內容源自專業垂類媒體。
我為科技狂
你好，目前這臺光刻機能生產最高製程的芯片是10nm，而國外商用的最新技術是能生產7nm的；另外，國產光刻機只能蝕刻4寸的晶圓。荷蘭ASML的光刻機由於光源好，生產的晶圓尺寸能達到12寸，大的晶圓尺寸有利於批量生產降低單位成本。
總的來說，這臺國產光刻機和國外最新的技術還有差距，但是也已經很先進了，排進全球前五沒問題。至於趕超，就只能寄希望於天才科學家的出現了，我們在研發新技術，別人也在研發，不是那麼容易的。目前荷蘭在這個領域有絕對的技術優勢，美國日本尚且不能和他抗衡，何況我們。但是也不用灰心，就像坦克發動機一樣，國產坦克發動機雖然落後德國MTU 30年，但已經是世界第二的水平了。
什麼水平？這是世界上首臺用紫外線光源實現22納米分辨率的光刻機，地位已經不能動搖了。
光刻機說白了就相當於是一個投影儀，只不過在這裡光就是一把雕刻刀，將內容雕刻在要呈現的地方。這樣的話如果太寬基本上就廢了，但是太細又做不出來。
從這樣的角度來看，這樣的技術真的可以說是領先世界了，畢竟現在世界上也僅僅只有三星，英特爾還有臺積電能做出。而我們僅僅用了七年的時間就完成了這樣的壯舉，實力不言而喻。
另一方面，光刻機的用處十分廣泛，用紫外線光源做的光刻機，從資本角度來說會比世界上很多知名的光刻機技術要便宜。用起來成本更低，效果更好。
從這項科技最重要的技術層次來說，紫外線光源的光刻機技術還是領先於世界，對於現有的光刻機技術來說可以說是一次質變了。而且傳統曝光現在已經滿足不了科技的需求，問題暴露很多，但是世界上類似的技術都貴到了天際，並不是簡簡單單的就能使用，因此我們這樣的技術可以說是獨特的科技了。
環球科技視界
魂舞大漠注意到了11月29日的消息，一內行有這樣的評述，實事上，又一顆大白菜又被兔子給拱了。呵呵，我們高興。有一門外漢卻說了，這個只是實驗品，用於芯片廠的我們有嗎？還沒有高精度鏡頭，也沒有高精度對準技術，精度只是阿斯麥的十萬分之一，可是我們看到，中芯國際訂購的7納米級EUV明年就到貨了呢，噫，向來依據“瓦納森協定”，這種光刻機可是對我嚴格禁止出口的，這又是怎麼回事？美國揮動制裁大棒，制裁中興，不過眼巴前發生的事呀，讓我們通過實事，來戳穿一些謊言，一觀實事真相如何？先來理清這位門外漢的迷霧，他說的這些，對我們來說都有了，技術上在國際上領了先，且領先不是一星半點，只是他根本不懂，人云亦云罷了。僅光電所在國際上申請的專利就有4項，其它4項已被人申請。通過研發，所可喜的是，人才隊伍已是兵強馬壯，技術上撥開了迷霧，已來到了一個大的突破期。光電所的精英們說了，可以保證，下一步就是彎道超車的問題。好了，下面就讓我們來做番梳理。
▲名字之下。藏多少貓膩，英文不好，不關注科技者，不知ASML在我們這就叫阿斯麥，而艾司摩爾正是臺灣的叫法，其臺積電佔有5%的股權。韓國三星3%，英特爾有15%，荷蘭這家公司，不過，大國協作的產物，什麼美國的光源，德國蔡司鏡頭等等，他們都是該公司的股東，因此成就了ASML的名頭。由於很多技術突破了物理的極限，使用的名詞，不為尋常百姓所熟知，突破了極限，要的是精度，芯片體積才可以造的越來越小呀。中國每突破一極限，美國為代表的西方國家，即開始對中國出口相關產品，成為規律，誰不掙錢都著急，2015年剛說要將65納的設備給我們，今年阿斯麥就宣佈，7納的光刻機對中國一視同仁，嘻嘻，謝謝您的仁慈，誰都能聽出來，中國沒有的話，實事上根本不可能，不少噴子納悶極了，我們的進步，有這麼快？是的，由不得你眨下眼睛。國際上現在最先進的芯片也就是這個水平了，中興還是回國創業吧。
▲新聞背後。光刻機是集成電路產業的一顆最璀璨的明珠，閃爍著高難問的光輝，如同航空產業的發動機一樣，由於技術門檻非常之高，一般人拱不動的，日本由於收購德國亞深，掌握了深紫外光源技術和物鏡技術，其尼康和佳能也能做22納的水平，這些年還是發了些財的，所以每談及日本芯片，總有人投去羨慕的目光。我們收不動，大約也只能自家研發，透過新聞報道，我們可以看到，我們走了一條不同的路，取得了更高的精度，有稱世界首臺用紫外光源實現22納的EUV，採取多次曝光技術可以實現10納，我們不吹，10納以下是一個級別，所以7納亦可有望實現之。至少打破了禁運規則，他們再想賺錢，不得不重新審定，只是手裡還有嗎？由此看來，人家比咱們有些人要明白，能賺則賺，這回中國先，要來幾臺？所以新聞說，可以達到一致的水平。年初要制裁，年底被打臉，這一掌摑出了深紫之血。
▲中國光刻。我們使用的光源，為固態深紫外，不同於阿斯麥的離子束，我們的優點比較細，可使設備小巧得多，成本還低。二看物鏡的鏡片，荷蘭使用的是磁流變和離子束，輔之以手工，加工慢，人工成本自然就高，我們則實現了全自動。此二者都是日本根本不可能完成的。以現在的技術，產業以後，以其壽命長，產率高，可以白菜價佔領14納的市場。致於極紫外的，現在都在努力，據說0.1納的鏡片，我們已攻克，上面鍍的一層原子膜，中國說是第二，無人敢講第一。據悉日本不敵已敗走，阿斯麥為此正在吭哧憋肚。年初中芯花錢買來的7納EUV，每臺1.2億美刀，我們的量產後，不過千萬級。請記住，2018年11月29日，這一天是有重大意義的，魂舞大漠去各大網站走了一遭，看到網友們無不為咱們取得的成就歡欣鼓舞。
魂舞大漠
看了不少回答/感覺文不對題的太多/在此給大家普及下有關光刻機的一些常識:
首先，因特爾三星臺電的光刻機均買自於荷蘭ASML;
其次，他們均在aSmL持有股份(因特15%臺電5%三星3%，目前臺電已於2ol5年售出其全部股票/三星於2016售出其一半股份/因特也於2017年減持至5%);
綜上兩點臺電三星們只是擁有目前最高端光刻機的優先使用權並不是佔有核心技木(因為AMSL有將機器賣給別人的權力比如克強總理就為我們中芯要到了一臺7nm光刻機預訂2ol9年交付)
舉個票子，就像一個數學公式，奧數競賽的冠軍可以熟練使用各種公式解題但並不是能說他用來解題的公式是他發明或創立的，同理為什麼目前只有臺電能量產7nm也一樣，三星臺電因特等廠商用的是amsl生產一模一樣的光刻機，只能說明臺電運用原產機器的思路超群，就像我們考試一樣,面對同樣的試題學霸可以用已知知識(如公式等)快遞給出答案甚至有多種解法而學渣呢你就是告訴他公式他也一臉懵逼不可能得出正確答案。
其三，AMSL之前的光刻機首曝光為35nm,目前最先進的極紫EUⅤ首曝光為13.5nm，而目前鼓吹的7nm是多重曝光後的結果;
其四,中科院通過驗收的光刻機是其七年技術攻關結果，不是美製裁中興後才頭腦一熱靈機一動就研發成功了，說明國家在十幾年前就在佈局了不是媒體帶路黨所說的鼠目寸光只求市場不管技術,順便說一下這臺光刻機在2017年已經研製成功並試產過一些芯片了(不是原理機明白？相關信息可查閱中國科技報)今年是驗收通過，再說三遍是驗收/驗收/驗收;
最後,amsL的極紫EUV首曝光達13.5nm是其近三十年(AMSL創立於1964年前身為半導體設備代理商1984于飛利浦光刻設備研發小組合作1995上市開始跨越式發展2012年引入因特三星臺電戰略投資三家合佔約23%的股份)的技術沉積結果/是AMSL光刻設備五代機,強調一下是目前世界最最先進的光刻五代機，而中科院的光刻機首曝光達22nm/是我們國產的光刻設備一代機,再重複一遍是一代機，技術孰優孰劣一目瞭然！
至於有些說什麼實際量產10nm要N年以後(說跟amSl一樣需要多少多少設備多少多少材料等等)的說法，我也是無語了，國產Sp與荷蘭amSI是兩種不同技術路線，就好像把大麥和水稻一樣，雖然二者都可以做成饅頭和米飯來解決人們的飢餓問題,但水稻並不需要像大麥一樣收割打穀脫粒磨粉變為麵粉然後加水和麵加鹼發酵然後塑形或條狀或圓形再然後上鍋蒸等諸多步驟，水稻只需要收割打穀脫粒兩步變為大米就可以加水煮瞭如果再加上高壓鍋等設備就是在最後的出鍋時間都能與饅頭一較高下，除了以上步驟差異外再加上人力資源優勢那邊是十個人完成大麥從收割到上鍋蒸十多項事務這邊是一百人完成水稻兩三項成為大米並上鍋煮的事務，你說最終效果會怎樣？只要不是瞎子或傻子都明白！！要不你以為我們求爺爺告奶奶二十多年了AMsL就是不買給我們(就是從臺灣那裡花幾倍價錢買個落後二代的都要被人家警告一番)現在卻突發善心均許中芯國際購買了？！
三座大山81182471
這個問題得分幾個方面說：
一、從製造能力上看，單次曝光能製造22nm芯片，多重曝光能製造10nm芯片，是先進水平，畢竟除了臺積電、三星、英特爾、格羅方德，也沒有誰了。
二、單從傳統光源和控制技術上看差距不小，只有中等水平，畢竟用的只是365nm波長的紫外光，而傳統光刻技術現在用於量產22nm、10nm芯片的光源是193nm波長的深紫外光，進一步則是不久後即將使用10~14nm波長的極紫外光。
三、如果從技術原理上說，那麼我國這個是目前最牛的了，因為不同於傳統光刻技術，這個技術通過激發表面等離子來大幅縮短波長以實現高精度光刻，理論上衍射產生的不良影響大幅下降，進一步發展將比傳統光刻技術的極限更優秀，而且費用也會更低，畢竟幾萬十幾萬美元的紫外光源和上千萬一個的極紫外光源成本區別大了去了，而且傳統光刻更多重的曝光掩膜成本也更高的多；365nm波長的光實現單次22nm、多重曝光10nm，這是全球獨一份。
心息相戀
理論上講，中國的的光刻機成熟了要比進口的更先進，即便是目前還不成熟也能進入世界高端了，排在前幾名沒問題。
這個光刻機，另闢蹊徑很好的解決了光刻機衍射斑點問題。相對於其它公司可以用更大的波長，獲得更小的衍射光斑。可以用近紫外光365的波長，達到其它公司深紫外光極，限到一百多納米波長才能產生的效果。目前可以做到衍射在22納米內不受影響，可以做到切割10納米以下的線寬。也就是可以完成芯片10納米的工藝.如果工藝再加完善，經驗在豐富些。如果不考慮成本，用到國外的極限紫外光的超短波長，一定衍射更小距離，取得更極限光刻工藝……
力通科技一點通
第一，從光刻機體制上講，這是創新體制，有未來領先的體制。
第二，它技術上還不算完善和成熟，需繼續研發
第三，它現在的實際製作水平，還落後於荷蘭傳統光刻機，但是它一旦成熟起來，就會領先傳統光刻機一代，前景光明，是我國芯片領域最新突破
王忠朝WZC
二十年前的世界水平！努力吧！別吹牛誤國！
放眼世界看淡風雲
聽說這個東西確實是很重要的突破，但是有侷限性，可以製作光學元件，但不能用來製作cpu，gpu這類複雜的東西
