一，真空电镀
真空电镀（Vacuum Metalizing）：一种物理沉积现象。即在真空状态下注入氩气，氩气撞击靶材，靶材分离成分子被导电的货品吸附形成一层均匀光滑的仿金属表面层。
典型产品：反射涂层，消费电子产品和隔热板的表面处理
产量适合：单件到大批量皆可
质量：高质量，高亮和产品表面保护层
速度：中等的生产速度，6小时/周期（包括喷漆）
二，电解抛光
电解抛光（Electropolishing）：以被抛光工件为阳极，不溶性金属为阴极，两极同时浸入到电解槽中，通以直流电离反应而产生有选择性的阳极溶解，从而达到工件表面除去细微毛刺和光亮度增大的效果。
典型产品：建筑结构，食物处理储存和医疗制药
产量适合：单件到大批量皆可
质量：表面高亮，光滑且卫生
速度：中等的生产速度，5-30分钟/周期
适用材料
1.大多数金属都可以被电解抛光，其中最常用于不锈钢的表面抛光（尤其适用于奥氏体核级不锈钢）。
2.不同材料不可同时进行电解抛光，甚至不可以放在同一个电解溶剂里。
三，光蚀刻表面处理
光蚀刻表面处理（Photo Etching）：简称光刻，利用照相手段制作抗蚀膜像，用来保护表面，在金属、塑料等上面，借助化学腐蚀剂进行腐蚀产生表面纹理的方法。
典型产品：用于珠宝首饰，铭牌和奖杯的表面处理
产量适合：单件到大批量皆可
质量： 延长曝光和化学物质都可以实现光蚀刻表面处理
速度：中等的生产速度（50-100微米/5分钟）
适用材料
1.大多是金属都适合光蚀刻表面处理，最常见的有不锈钢，软钢，铝，黄铜，镍，锡，铜和银。其中铝材的光蚀刻速度最快，而不锈钢的光蚀刻速度最慢。
2.玻璃，陶瓷也适合光蚀刻表面处理，只是需要不同的光阻蚀剂和化学物质。
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