雷鋒網消息，近日有外媒報道稱中國員工竊取荷蘭公司阿斯麥（ASML Holding N.V）商業機密並洩露給中國政府，ASML就是此前中芯國際購買1.2億美元EUV光刻機的賣方，幾乎是中芯國際2017年的全部淨利潤，“ASML中國員工竊密”一事也得到了半導體行業的廣泛關注。
圖片來自ASML官網
竊密事件回顧
雷鋒網瞭解到，消息出自荷蘭一家當地媒體（Financieele Dagblad），該媒體報道稱，幾名中國籍僱員從ASML的美國子公司竊取商業機密，導致ASML虧損數億美元。
相關報道指出，這些中國籍僱員是ASML公司研發部員工，有訪問ASML美國聖何塞分公司內部網絡的許可權，他們利用職務之便竊取了設備的源代碼、軟件、公司定價策略和供內部使用的設備手冊，並將信息傳遞給ASML的競爭對手XTAL公司。
那麼，XTAL是否真的竊取ASML商業機密了呢？起碼從法院判決來看，確實是這樣。2018年11月，ASML公司以“盜用商業機密”為由將XTAL告上法庭，法院正式裁決，XTAL必須向ASML支付2.33億美元的賠償金，然而一個月後，XTAL公司即申請破產。
XTAL於2014年在美國硅谷成立，雖然成立時間比ASML晚了十幾年，但是由於ASML一家獨大的市場地位，客戶還是希望有幾家公司同時競爭，比如三星就是XTAL的客戶，不過顯然XTAL沒能突破ASML的技術加商業壁壘。
在4月11日外交部發言人陸慷主持的例行記者會上，有記者問到，“荷蘭某財經媒體報道稱，荷蘭半導體業ASML公司的中方高管竊取該公司商業機密，造成公司鉅額損失，並稱這些技術被洩露給了中國政府。中方是否得知此事？對此有何評論？”
陸慷答：我們注意到有關報道，但不瞭解你提到的具體情況。實際上，中國和荷蘭在科技領域一直保持著良好的合作。我們多次重申，中國政府高度重視知識產權保護。我們一向要求海外的中國公民和企業遵守駐在國法律。
至於中國自身，中國的科技發展一不靠偷，二不靠搶，是中國人民用自己的智慧和汗水，辛勤奮鬥出來的。
ASML總裁發聲
涉及到芯片和大國關係等敏感話題，ASML總裁兼首席執行官Peter Wennink也是第一時間做出回應，ASML不同意它曾成為“中國間諜”的受害者。
“我們在某種程度上是國家陰謀的受害者的言論是錯誤的。事實是，我們被硅谷的一小部分員工‘搶劫’，他們違反法律以‘損公肥私’。所有這一切都發生在幾年前。我們自己發現了這一點，並於2016年立即在公共法庭尋求法律訴訟。在我們於2018年11月官司勝利後，在幾份報道表明了這一觀點，“Peter Wennink說。
ASML官方表示，這些擁有各種國籍的員工竊取的掩模優化軟件，是ASML產品和服務組合中的一小部分，目的是創建一個競爭產品並將其出售給韓國現有的ASML客戶（應該是三星），XTAL的資金有一部分來自韓國。目前尚不清楚2.33億美元的賠償可以從現在破產的XTAL公司收回到什麼程度。
“我們反感任何有關此事件對ASML在中國開展業務有任何影響的建議。有些人恰好是中國公民，但其他國家的人也參與其中。我們確實謹慎地保護我們的專有知識，並且對信息安全非常敏感。我們相信，可以為包括中國客戶在內的所有客戶提供服務，並幫助他們建立業務。最近歐盟與中國之間的建設性談判和協議令中國加強尊重和保護非中國公司的知識產權，包括有效的執法行動，當我們看到這些在中國法律和審判中得到實現時，我們對此感到鼓舞”，溫寧說。
ASML官網資料顯示，ASML在16個國家的60多個城市設有辦事處，總部位於荷蘭Veldhoven，員工超過23000名。
非ASML不可？
“生產決定消費”，ASML在半導體行業的地位就是這麼不可取代，即便是英特爾、三星和臺積電也只能等ASML供貨。甚至在ASML的研發進展緩慢時，三家大廠注資數十億美元幫助ASML開發EUV光刻工藝及18英寸晶圓，可見光刻機的門檻之高。
EUV光刻機透視圖（雷鋒網摘自ASML官網）
顧名思義，光刻機就是用光來刻電路，光刻機（Mask Aligner) 又名掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等，常用的光刻機是掩膜對準光刻，所以叫Mask Alignment System。一般的光刻工藝要經歷硅片表面清洗烘乾、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對準曝光、後烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。
Photolithography（光刻） 意思是用光來製作一個圖形（工藝），生產集成電路簡要可以分為三步：
利用模版去除晶圓表面的保護膜。
將晶圓浸泡在腐化劑中，失去保護膜的部分被腐蝕掉後形成電路。
用純水洗淨殘留在晶圓表面的雜質。
這個過程類似照片沖印，光線經過鏡頭把景物影象聚焦在膠片上，膠片上的感光劑隨光發生變化，膠片上受光後變化了的感光劑經顯影液顯影和定影形成和景物相反或色彩互補的影象。光刻集成電路的載體成了晶圓，成像變成了電路。
芯片被譽為工業石油，光刻機則被譽為半導體行業的明珠，目前ASML已經佔據行業絕對統治地位，一方面是高端工藝無人能及，另一方面是市場佔有率非常高，尾隨其後的尼康和佳能技術較之相差一兩代。2017年全球光刻機總出貨294臺，ASML出貨198臺，佔有68%的市場份額。更高端的EUV光刻機方面，ASML佔有率100%。
物以稀為貴，2017年ASML單臺EUV機平均售價超過1億歐元，2018年一季度的售價更是接近1.2億歐元，但就這樣還是有價無市，產能有限
EUV光刻機中的EUV指的是是波長13.5nm的極紫外光，普通的DUV光刻機使用的是193nm的深紫外光，EUV光刻機可以大幅提升半導體工藝水平，實現7nm及以下工藝，更重要的，這是半導體摩爾定律能延續下去的基礎，當下摩爾定律並不是芯片設計的問題，純粹是材料工藝度不達標，ASML能夠提供更精密的設備，在產業的幾乎最上游。
按照英特爾的規劃，EUV光刻機本來早在2005年就應該投入使用，但是這顯然低估了材料學的難度，EUV波長僅有13納米，光線能量和破壞性極高，製程的所有零件、材料，樣樣挑戰工藝極限，機械動作誤差要以皮秒（兆分之一秒）計。
對於志在發展國內半導體行業的我國來說，光刻機也是必須要突破的一環，2018年底，國家重大科研裝備研製項目“超分辨光刻裝備研製”29日通過驗收，該光刻機由中國科學院光電技術研究所研製，光刻分辨力達到22納米，結合雙重曝光技術後，未來還可用於製造10納米級別的芯片。
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