2019年7月1日，日本宣佈對韓國三類原材料進行出口管制，這三類原材料是用於半導體制造的化工品，分別是
氟聚酰亞胺、光刻膠和高純度氟化氫。
這三種化工品，韓國都對日本依存賴度較高，氟聚酰胺甚至達到了93.7%，而用於半導體制造的高純度氟化氫幾乎100%由日本進口。禁令一出，韓國電子業就受到巨大的震動。分析人士指出，日本這一貿易措施將嚴重影響韓國、乃至全球半導體供應鏈產能，導致內存、閃存、OLED屏幕等產品面臨漲價風險。
由人及己，國內有人擔心我們是否也受到日本“卡脖子”。
網上有人從氟化氫生產過程分析，要生產出電子級氟化氫有多難，大都認為生產過程對工藝過程、生產環境、生產設備要求有多高，似乎只有日本才能生產出來。
有人說這種超淨室很難
然而，實情讓人大跌眼鏡！
在韓國遭到禁運的時候，中國相關生產廠家立即聞風而動，並且SK海力士等工廠很快就完成了取代日本產品的測試。
在半導體制造過程中，主要有兩種蝕刻技術：乾式蝕刻和溼式蝕刻。
乾式蝕刻：通常稱為反應離子刻蝕或RIE，使用通常含有鹵素原子的等離子體活化的刻蝕氣體，選擇性地去除一部分材料。優點在於精度高，安全。缺點是產能低，成本高。
溼式蝕刻：使用酸或鹼的水溶液來快速除去大量材料或完全去除特定材料。優點是便宜，產能高。缺點則是精度低，危險性高，蝕刻用化學品不宜長期儲存。
高純度氟化氫在半導體制造過程中主要用於溼式蝕刻，而在整個蝕刻行業中，不同的加工對象，採用的蝕刻氣體又有多種。
因此，總的來說，半導體行業對氟化氫的需求不算太大，業內人士評論，用於半導體蝕刻的氟化氫純度99.99%已經夠用了。更要命的是，2013年、2014年中國在這方面的產能利用率還不到50%，一直到2018年，我國環保要求提高，氟化氫產能利用率才提升到約61%
而日本能夠一直壟斷整個行業，是因為他們的純度更高、產能高、價格便宜。說白了，就是他們的產品性價比更高。
當然，在我國一方面要抑制過高的產能，淘汰規模較小、工藝技術落後、汙染嚴重的產線，還必須提高產品純度，降低成本，提升產品的競爭力。
在這個行業，真不是防“卡脖子”，而是要想方設法去人家碗裡搶吃的。
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