作為全球唯一能生產EUV光刻機的公司，荷蘭ASML公司去年出售了26臺EUV光刻機，主要用於臺積電、三星的7nm及今年開始量產的5nm工藝，預計今年出貨35臺EUV光刻機。
目前ASML出貨的光刻機主要是NXE:3400B及改進型的NXE:3400C，兩者基本結構相同，但NXE:3400C採用模塊化設計，維護更加便捷，平均維修時間將從48小時縮短到8-10小時，支持7nm、5nm。
此外，NXE:3400C的產能也從之前的125WPH（每小時處理晶圓數）提升到了175WPH。
不論NXE:3400B還是NXE:3400C，目前的EUV光刻機還是第一代，主要特點是物鏡系統的NA（數值孔徑）為0.33。
根據光刻機的分辨率公式，NA數字越大，光刻機精度還會更高，ASML現在還研發NA 0.55的新一代EUV光刻機EXE:5000系列，主要合作伙伴是卡爾蔡司、IMEC比利時微電子中心。
EXE:5000系列的下一代光刻機主要面向後3nm時代，目前三星、臺積電公佈的製程工藝路線圖也就到3nm，2nm甚至1nm工藝都還在構想中，要想量產就需要新的製造裝備，新一代EUV光刻機是重中之重。
根據ASML的信息，EXE:5000系列光刻機最快在2021年問世，不過首發的還是樣機，真正用於生產還得等幾年，樂觀說法是2023年或者2024年才有可能看到NA 0.55的EXE:5000系列光刻機上市。
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