人生丶如只如初見
刻蝕機分為幹刻、溼刻兩種。其中溼刻一般依靠化學方法，需要有化學液體的參與；而幹刻的過程則沒有液體參與。其中，等離子體刻蝕是一種幹法刻蝕。等離子體具備兩個特點：等離子體中的氣體化學活性很強，根據被刻蝕材料的不同，選擇合適的氣體，就可以更快地與材料進行反應，實現刻蝕的目的（在硅片上的刻蝕就是等離子體與硅反應）；另外一方面，等離子體是帶電的，因此還可以利用電場對等離子體進行引導和加速，使其中的離子具備一定能量，當離子轟擊被刻蝕物的表面時，會將被刻蝕物材料的原子擊出，從而依靠物理能量的轉移來實現刻蝕（這有點像汽車開過水坑，把水濺出來一樣）。等離子刻蝕機正是利用等離子體在晶圓表面進行集成電路（芯片）圖形雕刻的工具。但製造這種儀器卻具有很高的難度，比如有一種等離子刻蝕機需要用到電感耦合等離子體源，而這種射頻源的製造在電路設計上就很不簡單。而且為了保證等離子體的質量，還需要很高真空度。因此，綜合起來，這是一個有技術難度的高科技儀器
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