1、我国超高精度5nm激光光刻技术取得重大突破，中科院研发新型激光光刻技术，无需EUV技术就可制备出5nm特征线宽——可谓中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所立下大功！
2、用化学方法突破光刻技术壁垒——广东惠伦晶体科技股份有限公司已经搞定！在成功开发出5G相关产品适用的1.6×1.2mm尺寸石英晶片基础上，正在对更小尺寸的1.2×1.0mm的石英晶片进行开发研究。
感言：
群起饱和“攻击”ASML光刻机技术的号角已经吹响！坐等“白菜价”！
小伙伴们敢不敢预言ASML光刻机淘汰的时间！
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