前段時間的芯片禁令暴露了很多的問題，把芯片的生產分成的三個階段，分別是芯片設計，芯片製造和芯片封測，其中芯片封測最簡單，芯片製造最困難，而我國目前只有華為掌握了5nm芯片的設計能力，而中國的芯片製造能力與荷蘭的ASML相差了至少兩代技術以上。
光刻機想必大家也有了一些瞭解了，其實一開始我也是對這項科技一點都不熟悉，畢竟尖端科技那麼多，我們不可能都接觸過，但是美國的芯片禁令讓這項科技進入了我們的視野當中，芯片禁令是美國針對華為的打擊手段，其核心就是阻止華為生產芯片。
而生產芯片的核心設備就是光刻機，目前世界上光刻機實力最強的就是荷蘭的ASML，相比之下，中國的光刻機技術水平只相當於人家的十年前的水準，可以說是有著巨大的差距。也正是因為光刻機技術的缺失，所以華為在美國的芯片禁令之下束手無策。
美國這次玩大了！任正非正式宣佈：華為芯片迎來突破，無需光刻機。儘管華為在離開了芯片之後，損失慘重，就連自己旗下的子品牌榮耀都給賣掉了，但是華為沒有放棄在芯片領域的研究，他在積蓄更大的能量，最後完成更大的突破。
很多人都以為，既然要在芯片領域完成突破，那前提應該就是光刻機了呀，但是華為對光刻機並沒有什麼研究呀，真的能夠短時間內完成光刻機的研究嗎？如果是光刻機的話，那華為還真的無法做到，所以華為這次是另闢蹊徑。
華為研發出了屏幕芯片，對製程沒有很高的要求，只需要50-60nm就完全夠用了，中國自研的光刻機也可以生產，並且屏幕芯片是依託於華為5G技術研發的，兩者相輔相成，一旦投入市場，將會對現有的智能手機格局產生巨大的衝擊。
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