在2007年以前，在光刻機領域，尼康、佳能就是當時的王者，ASML則是不入流的跟隨者，混了好久，也是難以解決“大富大貴”問題，但是，ASML的能耐就在於如同路邊的乞丐，雖然吃不飽，但是好歹還能撿些尼康、佳能不甩乎的小單子，當作“殘羹冷炙”解決餓不死的問題。
光刻機
就這樣ASML跟在尼康、佳能後面，徘徊了20年，也算是活了下來。俗話說，機會是留給有準備之人的，就在這個時候ASML抓住了臺積電的“浸潤式微影”技術，雙方一拍即合，就這樣，光刻機領域的霸主移位了，從此，尼康、佳能則是在光刻機市場一敗塗地，ASML則成為了現在半導體制造設備的絕對龍頭，尤其是在光刻機方面，天下企業無人敢與之爭鋒！
在現在的高端光刻機市場，ASML的市場份額超過80%，而在EUV光刻機領域，ASML的全球市場份額為100%，很好理解的數字，全球獨此一家，別無分店，人家壟斷了！
ASML
能夠獲得這個壟斷地位，也不是一般企業可以做到的，ASML確實不是一般的企業，畢竟，人家就是壟斷了，哪個國家又敢質疑一下呢？原因就是在於ASML在光刻機領域中的絕對的技術專利壁壘，其他企業想進入，幾乎不可能！
光刻機
而ASML在獲得如此市場成就之後，並沒有對現在的技術感到滿意，畢竟，技術市場是要被創新突破的，只有在技術上進行更高層次的自我突破，才能防止被別的企業拉下馬，而正是因為這樣的憂患意識，ASML現在又要進擊了，目標：1納米！
光刻機
現在ASML的EUV光刻機已經助推臺積電實現了5納米工藝芯片的量產，不過，按照ASML的計劃，開發之中的High-NA技術將助推新型EUV光刻機性能比現在的NXE：3400B以及NXE：3400CEU光刻機性能提升70%，而這也意味著ASML的新型光刻機將帶領人類芯片製程工藝進入1納米時代！
光刻機
ASML進步之快，超乎很多人的想象，那麼對於我們來說，如何發展我們自己的光刻機事業呢？歡迎大家在評論區獻言獻策，感謝大家對國產半導體產業的支持！
