等離子清洗技術能夠清除金屬、陶瓷、塑料、玻璃表面的有機汙染物，可以明顯改變這些表面的粘接性及焊接強度。離子化過程能夠容易地控制和安全地重複實現。可以說，有效的表面處理對於產品的可靠性或過程效率的提高是至關重要的，等離子技術也是目前最理想的技術。通過表面活化，等離子技術可以改善絕大多數物質的性能：潔淨度、親水性、斥水性、粘結性、標刻性、潤滑性、耐磨性。下面，我們來了解等離子清洗機使用範圍。
CRF等離子清洗機
1.清洗電子元件、光學器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。
2.清洗光學鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。
3.移除光學元件、半導體元件等表面的光阻物質。
4.清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石。
5.清洗半導體元件、印刷線路板。
6.清洗生物芯片、微流控芯片。
7.清洗沉積凝膠的基片。
8.高分子材料表面修飾。
9.牙科材料、人造移植物、醫療器械的消毒和殺菌。
10.改善粘接光學元件、光纖、生物醫學材料、宇航材料等所用膠水的粘和力。
真空等離子清洗機
等離子清洗機使用範圍就為大家講述到這了。有什麼問題歡迎至電【誠峰智造】諮詢探討。深圳市誠峰智造有限公司是一家研製、開發、設計、生產、銷售、服務於一體的高新技術企業。誠峰智造與中科院；中國等離子技術研究所及國內重點院校進行合作，堅持自主創新與國外新技術相結合，全力打造CRF PLASMA 為等離子技術領導品牌。歡迎一起來探討等離子技術話題！
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