等离子清洗技术能够清除金属、陶瓷、塑料、玻璃表面的有机污染物，可以明显改变这些表面的粘接性及焊接强度。离子化过程能够容易地控制和安全地重复实现。可以说，有效的表面处理对于产品的可靠性或过程效率的提高是至关重要的，等离子技术也是目前最理想的技术。通过表面活化，等离子技术可以改善绝大多数物质的性能：洁净度、亲水性、斥水性、粘结性、标刻性、润滑性、耐磨性。下面，我们来了解等离子清洗机使用范围。
CRF等离子清洗机
1.清洗电子元件、光学器件、激光器件、镀膜基片、芯片。
2.清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。
3.移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质。
4.清洗ATR元件、各种形状的人工晶体、天然晶体和宝石。
5.清洗半导体元件、印刷线路板。
6.清洗生物芯片、微流控芯片。
7.清洗沉积凝胶的基片。
8.高分子材料表面修饰。
9.牙科材料、人造移植物、医疗器械的消毒和杀菌。
10.改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力。
真空等离子清洗机
等离子清洗机使用范围就为大家讲述到这了。有什么问题欢迎至电【诚峰智造】咨询探讨。深圳市诚峰智造有限公司是一家研制、开发、设计、生产、销售、服务于一体的高新技术企业。诚峰智造与中科院；中国等离子技术研究所及国内重点院校进行合作，坚持自主创新与国外新技术相结合，全力打造CRF PLASMA 为等离子技术领导品牌。欢迎一起来探讨等离子技术话题！
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