近日，位於成都市高新西區的
成都路維光電有限公司
G11高世代掩膜版項目一期設備
順利搬入高等級淨化廠房，
接下來將進入緊鑼密鼓的設備安裝、調試階段，
距離G11掩膜產品的正式投產更近了一步。
什麼是掩膜版？
掩膜版（Photomask）是在含有鉻等金屬薄膜的玻璃基板（Blanks）上，形成複雜幾何圖形的圖形轉移板。例如在TFT-LCD等高端面板的曝光製程中，利用掩膜版以及曝光的手段就能夠在玻璃等基板上形成線路（Pattern）。掩膜版是所有平板顯示等高端產品製造過程中非常重要的工序。
其重要市場對象是：平板顯示行業TFT（LTPS、Oxide等）面板，OLED面板，彩色濾光片（CF），觸摸屏（TP），先進半導體集成電路（IC）等。
成都路維產業園
成都路維G11掩膜版生產線
項目總投資：10億元
項目位置：成都高新區（西區）
佔地面積：超過3.6萬平方米
G11光掩膜版項目設備搬入儀式
成都路維G11項目自2018年1月18日奠基以來，歷時6個月，一期建設主體廠房順利封頂；歷時8個月，項目淨化車間和機電動力設施均已滿足工藝設備搬入條件，此批工藝設備的搬入為項目的投產奠定了堅實的基礎。
G11光掩膜版項目一期設備搬入現場
項目專注研發生產高世代、高精度TFT-LCD掩膜產品以及新型掩膜技術的研發，項目建成後將成為我國最大的掩膜版製造基地。項目計劃建設六條高世代掩膜版生產線，分兩期建設。項目一期建設1條11代和1條8.5代光掩膜版生產線，預計今年年底將實現點亮投產。
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