中國最新研發的22nm光刻機和asml的光刻機有什麼區別？

平西村在線

先正面做答：主要還是因為定位上有根本性的不同。

先摘錄新聞裡面的一句原話，這個就當做是前言了：

想理解這個問題，首先要改變一下自己心目中對“芯片”這個概念的定義。

一般人對芯片的理解，可能也就侷限於電腦cpu、手機芯片，例如intel 8700、驍龍835之類的東西，可是實際上，隨著網絡的發展，芯片的概念在不斷的擴大，凡是擁有運算能力或者集成規模電路的東西，其實都可以被稱為“芯片”。例如計算器裡面的計算核心（一般被稱為單片機）、變壓器芯片（如XL1530）等等，其實都是芯片的一種。

上圖就是封裝之後的XL1530芯片，它也是芯片，但是跟一般人認識中的CPU之類的東西差別很大。

然後，我們來了解一下光刻機，以及光刻機之間的差別。

顧名思義，它是用“光”來“刻”一個圖像的機器，“光刻”指的是在硅片表面勻膠，然後將掩模版上的圖形轉移光刻膠上，從而將器件或電路結構臨時"複製"到硅片上的過程。

其原理有些複雜，但是我們可以簡單的理解為“光刻機就如同一個極其精密的畫筆”，是一個能把非常複雜的精密電路畫在非常非常小的硅片上的“畫筆”。

如同毛筆、鋼筆、鉛筆、圓珠筆都是筆，但是存在差異一樣，光刻機由於其光源的不同，也存在差異。

不同波長的光源，只能用來加工不同的材料。

有了上述基礎認識，現在讓我們再通過新聞中的一句話，來了解一下我國這臺光刻機，和生產cpu所使用的ASML的光刻機有什麼區別：

這段話出自我國“超分辨光刻裝備研製”項目副總設計師胡松之口，可見我國光刻機所使用的光源和EUV光刻機的光源完全就不一樣。

其中有兩個原因：

一方面受限於成本；胡松設計師說的很清楚，我國光刻機整機價格才百萬元到千萬元級別。相比EUV光刻機來說，一個光源就能買我國這個光刻機好幾臺了。

另一方面，受限於我國實際的科研需求。我國光刻機的主要目的，還是為了解決高端探測器、傳感器之類的需求，是為了推進相關領域科研及高精尖技術的繼續進步，原本也就沒準備解決民用芯片問題。

所以，如果看到了這裡，相信大家也就能理解了，我國的光刻機和EUV光刻機之類的東西，定位不一樣，光源也不同，就如同毛筆和圓珠筆，同樣是筆，但是各有所長。

另外，給大家免費奉送一個小知識，也算是為我自己辯解一下：

2017年，我國中科院已經研製成功了世界上“最亮的極紫外光源”，並且可以應用在光刻領域。如今再配合上精度達到22納米的光刻機技術，兩相融合之下，其實製造高精度的CPU應該已經不遠了。

下面引用當時新聞報道中中科院副院長王恩哥的原話：

注意到最後一句我加粗的部分沒有？

“將大大促進中國在光刻等多個重要領域研究水平的提升”。

光源和高精度光刻機技術都已完備，你還怕我國製造不出來同級別cpu這樣的東西？

我覺得應該在不遠的將來就能實現，即使追不上世界一流，最起碼也得是中高端吧？

之前有人在提問“如何看待我國光刻機研製成功”的問題下面，我說這標誌著我國在芯片領域不再被扼住咽喉，當時先後有多位網友指責我外行，但是我真的覺得我雖然不專業，但也不至於真就這麼外行。

以我今天列舉出來的這些東西，我真的覺得我國即將在芯片領域崛起，不服來辯，評論區等你。

別的不說，這個事情，我為祖國感到驕傲。

酔語

ASML代表傳統光刻技術的巔峰。因為光有衍射的問題，波長越大衍射就越大，就越難精細，於是要刻細線就需要更短波長的光去刻，或者通過多重曝光來提高精細程度，而更高要求的光源成本就更貴、更多重曝光的成本也更高、同時要求更高精準的設備就更貴。現在普遍是用193nm波長的深紫外光通過多重曝光製造22nm、16/14/12nm、10nm芯片，甚至可以造7nm芯片，但曝光成本和難度極大增加，因此開始用波長10~14nm的極紫外光刻機，但這就對光源提出極高的要求，一個光源就得上千萬美元。

我國這個技術則是用波長365nm的紫外光通過表面等離子方式迅速收窄波長，達到精細光刻的要求，根據宣佈的情況看，單次曝光就能造22nm芯片，雙重曝光就基本能造10nm芯片，而幾萬十幾萬美元一個的光源可便宜多了。

這兩種技術特色打個比方來說：ASML光刻機是用小刀刻細線，屬於非常精細的小刀去刻細線；我國這次的光刻技術是大刀刻細線，就好像刀刃不夠細，但厚刀刃放出的刀氣能刻細線。

心息相戀

一個是做生產線量產用的，一個是做出來糊弄領導，驗收後騙國家補貼用的

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