地膜栽培的增溫有效時間大約為40余天，如果鋪膜細緻，管理精細，一般在拉秧時多數膜仍完好或破損甚少。通過多年實踐證明，目前使用的地膜厚度多在0.010~0.015毫米之間，很薄，而且寬度多在70~100釐米之間。
因此，使用時就不能象農膜(厚0.1~0.12毫米)那樣支撐成高拱棚，只能撐成20~25釐米高的小拱棚。另外，最好和小風障、風牆、拱棚、大棚等保護形式相結合，起到防風護膜作用，避免單獨使用時把膜吹破。最後需要指明的一點是採用地膜支撐成的小拱棚，前期一般是先“蓋天”，幼苗在小拱棚內度過霜期，但是在晴天中午前後，因膜內空間小，溫度變化驟烈，一定要注意通風防止“烤苗”。
當外界霜期已過，氣溫回暖苗子已經頂住薄膜時，再從拱棚的頂部穿孔，把苗子從孔中拉出來，把拱架拆掉，把膜落地形成“蓋地”的形式。這種“先蓋天，後蓋地”的栽培方式，顯然比只蓋地的覆膜方式可提早10~15天定植，這不但經濟利用了薄膜，也充分利用了當地的有效生長季節。
根據試驗採用“先蓋天、後蓋地”的形式栽培西瓜，比單純“蓋地”成熟期可提早5~7天，經濟效益可增加20%左右。
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