EVG與DELO聯手，為光學傳感器製造的新材料開發提供支持，並促進晶圓級光學元件的大規模市場應用。
據麥姆斯諮詢報道，為MEMS、納米技術和半導體市場提供晶圓鍵合及光刻設備的供應商EV集團（以下簡稱EVG）於近日宣佈，在晶圓級光學元件（WLO）領域與工業高科技粘合劑製造商DELO展開合作。兩家公司均在光學傳感器製造領域聞名遐邇，兩者的合作將共同致力於利用EVG透鏡注塑成型和納米壓印光刻（以下簡稱NIL）設備以及DELO先進的粘合劑和抗蝕材料，實現工業、汽車和消費電子等領域的生物識別、人臉識別等新型光學器件及應用。
EVG的NILPhotonics®技術中心位於其總部——奧地利St. Florian，DELO總部位於德國Windach，兩家公司共同開展的合作將有助於改善並加快材料的開發週期。EVG的NILPhotonics®技術中心將為NIL供應鏈中的客戶和合作夥伴提供開放式創新孵化器，以合作的方式來縮短創新器件及應用的開發週期和上市時間。其基礎設施包含最先進的潔淨室和設備，以支持如步進式重複曝光、透鏡成型和SmartNIL®技術等NIL製造的關鍵步驟，以及晶圓鍵合和相關測量步驟。這為晶圓級光學元件的開發、原型設計和製造獲取最新的技術和材料提供了一種獨特的方式。
納米壓印光刻產業鏈
11月12日至15日在德國慕尼黑舉行的SEMICON Europa展會上，兩家公司高管討論了最新的聯合開發項目。
供應鏈協作，共同推動晶圓級光學元件的應用
先進的粘合劑和抗蝕劑在下一代光學傳感器的大規模晶圓級製造中發揮著關鍵作用。先進光學材料的開發需要進行大量的化學、機械和光學特性的表徵，以及可大規模製造（以下簡稱HVM）的事實證明。如果想要使用已驗證的HVM工藝，以最小的形狀因子達到最佳的晶圓級光學元件性能，那麼自動成型和脫膜工藝所需的材料專業知識以及在NIL圖形壓印和抗蝕工藝的卓越兼容性尤其重要。
為高質量產品提供高可靠性和具有製造可行性的晶圓級光學元件，需保證工藝開發和改進滿足要求，那麼供應商與工藝設備製造商之間的密切合作顯得尤為重要。EVG與DELO的聯合發力將支持兩家公司改進其工藝和產品，同時還加強了各自的專業技術，以滿足當前和未來的市場需求。該合作伙伴關係還將提供成熟的材料和工藝專業技術，以加快新產品設計和原型設計，同時還為雙方客戶的發展規劃保駕護航。
“NIL Photonics®技術中心以獨特的方式解決了行業對新方法的需求，實現產品的快速開發上市，並保證高度機密性，”EVG企業技術開發和知識產權總監Markus Wimplinger說道。“通過與DELO等供應鏈關鍵企業建立合作，我們作為工藝和設備專家密切合作的核心，能夠更高效地幫助新生產線開發和確認關鍵製造步驟。”
“EVG和DELO分別在晶圓級光學元件和NIL設備、光學材料市場中享有盛譽，在將這些技術和工藝應用於大規模生產方面的可靠性已有數據證明，”DELO總經理Robert Saller表示。“合作中，我們將提供自己獨特的技術，將晶圓級工藝技術應用於光學器件和光電器件製造中，使EVG成為我們最新產品開發的理想合作伙伴。這種合作還將使我們以應用專家和優質合作伙伴的身份為客戶服務。”
晶圓級光學元件的應用與解決方案
EVG的晶圓級光學元件製造解決方案為移動消費電子產品提供了眾多新穎的光學傳感器件。關鍵案例包括3D傳感、飛行時間（ToF）、結構光、生物識別、人臉識別、虹膜掃描、光學指紋、光譜傳感、環境傳感和紅外成像。其它應用還包括汽車照明、發光地毯、抬頭顯示、車內傳感和激光雷達，以及用於內窺鏡相機、眼科應用和外科機器人的醫學成像。EVG的晶圓級光學元件解決方案由公司的NIL Photonics®技術中心支持。
DELO的創新型多功能材料應用於全球各地的智能手機。該公司的高科技粘合劑以功能性和可靠性著稱。根據客戶額外的特殊需求，在需要對微型元件進行鍵合的短週期工業環境中，這些聚合物材料是理想選擇。此外，DELO的紫外LED固化設備和分配閥可提供卓越的可靠性。
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