【半導體封測行業】系列專題二：先進封裝引領未來發展，中國封測企業佔比較低。根據 Yole 數據 2017 年全球先進封裝產值達約 200 億美元，佔全球封測總值接近 一半的市場，其中中國的先進封裝產值僅佔 11.9%。

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一、技術發展方向

半導體產品在由二維向三維發展，從技術發展方向半導體產品出現了系統級封裝（SiP）等新的封裝方式，從技術實現方法出現了倒裝（FlipChip），凸塊（Bumping），晶圓級封裝（Waferlevelpackage），2.5D封裝（interposer，RDL等），3D封裝（TSV）等先進封裝技術。

▌ SoC vs.SiP

►SoC：全稱System-on-chip，系統級芯片，是芯片內不同功能電路的高度集成的芯片產品。

►SiP：全稱System-in-package，系統級封裝，是將多種功能芯片，包括處理器、存儲器等功能芯片集成在一個封裝內，從而實現一個基本完整的功能。

隨著摩爾定律的放緩，半導體行業逐漸步入後摩爾時代，SoC與SiP都是實現更高性能，更低成本的方式。一般情況下，從集成度來講，SoC集成度更高，功耗更低，性能更好；而SiP的優勢在靈活性更高，更廣泛的兼容兼容性，成本更低，生產週期更短。所以，面對生命週期相對較長的產品，SoC更加適用。對於生命週期短，面積小的產品，SiP更有優勢，靈活性較高。

▌ 傳統封裝vs.先進封裝

傳統封裝概念從最初的三極管直插時期後開始產生。傳統封裝過程如下：將晶圓切割為晶粒（Die）後，使晶粒貼合到相應的基板架的小島（LeadframePad）上，再利用導線將晶片的接合焊盤與基板的引腳相連（WireBond），實現電氣連接，最後用外殼加以保護（Mold，或Encapsulation）。典型封裝方式有DIP、SOP、TSOP、QFP等。

先進封裝主要是指倒裝（FlipChip），凸塊（Bumping），晶圓級封裝（Waferlevelpackage），2.5D封裝（interposer，RDL等），3D封裝（TSV）等封裝技術。先進封裝在誕生之初只有WLP，2.5D封裝和3D封裝幾種選擇，近年來，先進封裝的發展呈爆炸式向各個方向發展，而每個開發相關技術的公司都將自己的技術獨立命名註冊商標，如臺積電的InFO、CoWoS，日月光的FoCoS，Amkor的SLIM、SWIFT等。儘管很多先進封裝技術只有微小的區別，大量的新名詞和商標被註冊，導致行業中出現大量的不同種類的先進封裝，而其誕生通常是由客製化產品的驅動。

IEEE在2018年5月的電子元件和技術大會上推出2.x式命名法，但這一命名方法的行業接受程度有待觀察。我們將在先進封裝領域主要討論倒裝（FlipChip），凸塊（Bumping），晶圓級封裝（Waferlevelpackage），2.5D封裝（interposer，RDL等），3D封裝（TSV）等技術。

▌ 傳統封裝測試流程

►封裝：集成電路封裝是半導體器件製造的最後一步。封裝是指將製作好的半導體器件放入具有支持，保護的塑料，陶瓷或金屬外殼中，並與外界驅動電路及其他電子元器件相連這一過程。經過封裝的半導體器件將可以在更高的溫度環境下工作，抵禦物理的損害與化學腐蝕。封裝給半導體器件帶來了更佳的性能表現與耐用度。

►測試：這裡的半導體測試指的是封裝後測試。測試把已經制造完畢的半導體元器件進行結構和電氣功能的確認，測試的目的是排除電子功能差的芯片，以保證其各項性能符合系統的要求。測試也可以被稱為“終段測試”，與晶圓探針測試（封裝前測試）不同。

▌ 先進封裝優勢

先進封裝提高加工效率，提高設計效率，減少設計成本。先進封裝主要包括倒裝類（FlipChip,Bumping），晶圓級封裝（WLCSP，FOWLP，PLP），2.5D封裝（Interposer）和3D封裝（TSV）等。以晶圓級封裝為例，產品生產以圓片形式批量生產，可以利用現有的晶圓製備設備，封裝設計可以與芯片設計一次進行。這將縮短設計和生產週期，降低成本。

先進封裝提高封裝效率，降低產品成本。隨著後摩爾定律時代的到來，傳統封裝已經不再能滿足需求。傳統封裝的封裝效率（裸芯面積/基板面積）較低，存在很大改良的空間。芯片製程受限的情況下，改進封裝便是另一條出路。舉例來說，QFP封裝效率最高為30%，那麼70%的面積將被浪費。DIP、BGA浪費的面積會更多。

先進封裝以更高效率、更低成本、更好性能為驅動。先進封裝技術於上世紀90年代出現，通過以點帶線的方式實現電氣互聯，實現更高密度的集成，大大減小了對面積的浪費。SiP技術及PoP技術奠定了先進封裝時代的開局，2D集成技術，如WaferLevelPackaging（WLP，晶圓級封裝），Flip-Chip（倒晶），以及3D封裝技術，ThroughSiliconVia（硅通孔，TSV）等技術的出現進一步縮小芯片間的連接距離，提高元器件的反應速度，未來將繼續推進著先進封裝的腳步。

二、先進封裝技術及發展趨勢

▌ 先進封裝：Flip-Chip & Bumping

FlipChip指的是芯片倒裝，以往的封裝技術都是將芯片的有源區面朝上，背對基板和貼後鍵合。而FlipChip則將芯片有源區面對著基板，通過芯片上呈陣列排列的焊料凸點（Bumping）實現芯片與襯底的互聯。硅片直接以倒扣方式安裝到PCB從硅片向四周引出I/O，互聯長度大大縮短，減小了RC（Resistance-Capacitance）延遲，有效的提高了電性能。

FlipChip的優勢主要在於以下幾點：小尺寸，功能增強（增加I/O數量），性能增強（互聯短），提高了可靠性（倒裝芯片可減少2/3的互聯引腳數），提高了散熱能力（芯片背面可以有效進行冷卻）。

Bumping是一種新型的芯片與基板間電氣互聯的方式。可以通過小的球形導電材料實現，這種導電球體被稱為Bump，製作導電球這一工序被稱為Bumping。當粘有Bump的晶粒被倒臵(Flip-Chip)並與基板對齊時，晶粒便很容易的實現了與基板Pad(觸墊)的連接。相比傳統的引線連接，Flip-Chip有著諸多的優勢，比如更小的封裝尺寸與更快的器件速度。

FlipChip是先進封裝成長主要動力。根據Yole預測，受移動無線（尤其是智能手機）、LED、CMOS圖像傳感器的驅動，倒裝芯片需求將從2014年的1600萬片（等效12寸晶圓）增長到2020年的3200萬片，市場產值將達到250億美元。

FlipChip產品對應不同bumping類型增長速度不一。根據Yole預測，採用倒裝芯片技術的集成電路出貨量將保持穩定增長，預計產能將以9.8%的複合年增長率擴張，從2014年的約合1600萬片12寸晶圓增長到2020年的2800萬片。終端應用主要為計算類芯片，如臺式機和筆記本電腦的CPU、GPU和芯片組應用等。

其中鍍金晶圓凸點（Au-platedwaferbumping）將穩定增長，

金釘頭凸點（Austudbumping）產能將略有下滑，從2014年的30.4萬片降到2020年的29.3萬片，主要原因是射頻器件從倒裝芯片轉移至晶圓級芯片尺寸封裝（WLCSP）。但是，新興應用的需求將增加，如CMOS圖像傳感器模組、高亮度LED等。

中道封裝技術需求增長，將帶來行業上下游的跨界競爭。針對3DIC和2.5D中介層平臺的“中端工藝（middleend-process）”基礎設施的出現將使Fab和IDM受益，並在較小程度上分給OSAT。2.5D中介層平臺的發展將會產生價值的轉移，從襯底供應商轉向前端代工廠。

▌ 先進封裝：FIWLP&FOWLP，PLP

首先我們先要提及Wafer-levelpackaging(WLP，晶圓級封裝)的概念。在傳統封裝概念中，晶圓是先被切割成小的晶粒，之後再進行連接和塑封。而晶圓級封裝工序恰好相反，晶圓級封裝將晶粒在被切割前封裝完成，保護層將會被附著在晶圓的正面或是背面，電路連接在切割前已經完成。

• FIWLP：全稱Fan-inWafer-levelpackaging，又稱WLCSP（Wafer-levelChipScalePackage），扇入式晶圓級封裝，也就是傳統的晶圓級封裝，切割晶粒在最後進行，適用於低引腳數的集成電路。隨著集成電路信號輸出的引腳數目的增加，焊錫球的尺寸也就變得越來越嚴格，PCB對集成電路封裝後尺寸以及信號輸出接腳位臵的調整需求得不到滿足，因此衍生出了扇出型晶圓級封裝。扇入晶圓級封裝的特徵是封裝尺寸與晶粒同大小。
• FOWLP:全稱Fan-outWafer-levelpackaging，扇出式晶圓級封裝，開始就將晶粒切割，再重布在一塊新的人工模塑晶圓上。它的優勢在於減小了封裝的厚度，增大了扇出（更多的I/O接口），獲得了更優異的電學性質及更好的耐熱表現。

FIWLP與FOWLP用途不同，均為今後的主流封裝手段。FIWLP在模擬和混合信號芯片中用途最廣，其次是無線互聯，CMOS圖像傳感器也採用FIWLP技術封裝。FOWLP將主要用於移動設備的處理器芯片中。

根據Yole的預測，2018年以前FOWLP的主要驅動為蘋果智能手機的處理器芯片，2018年以後的FOWLP的主要驅動除了其他安卓手機處理器的增長，主要是高密度FOWLP在其他處理芯片的應用，如AI、機器學習、物聯網等領域。

• PLP：全稱Panel-levelpackaging，平板級封裝，封裝方法與FOWLP類似，只不過將晶粒重組於更大的矩形面板上，而不是圓形的晶圓。更大的面積意味著節約更多的成本，更高的封裝效率。而且切割的晶粒為方形，晶圓封裝會導致邊角面積的浪費，矩形面板恰恰解決了浪費問題。但也對光刻及對準提出了更高的要求。

▌ 2.5D封裝：RDL&中介層

• RDL(Redistributionlayer，再分佈層)：在晶圓水平上，觸點再分佈可以很高效的進行。再分佈層用於使連線路徑重新規劃，落到我們希望的區域，也可以獲得更高的觸點密度。再分佈的過程，實際上是在原本的晶圓上又加了一層或幾層。首先澱積的是一層電介質用於隔離，接著我們會使原本的觸點裸露，再澱積新的金屬層來實現重新佈局佈線。UBM在這裡會被用到，作用是支撐焊錫球或者其他材料的接觸球。
• 中介層(Interposer)：指的是焊錫球和晶粒之間導電層。它的作用是擴大連接面，使一個連接改線到我們想要的地方。與再分佈層作用類似。

▌ 3D封裝：TSV，PoP和MEMS

• TSV（Through-siliconvia，硅通孔）：Bump和RDL會佔用芯片接合到基板上的平面面積，TSV可以將芯片堆疊起來使三維空間被利用起來。更重要的是，堆疊技術改善了多芯片連接時的電學性質。引線鍵合可以被用於堆疊技術，但TSV吸引力更大。TSV實現了貫穿整個芯片厚度的電氣連接，更開闢了芯片上下表面之間的最短通路。芯片之間連接的長度變短也意味著更低的功耗和更大的帶寬。TSV技術最早在CMOS圖像傳感器中被應用，未來在FPGA、存儲器、傳感器等領域都將被應用。根據Yole預測，2016~2021年，應用TSV技術的晶圓數量將以10%的年複合增長率增長。3D存儲芯片封裝也會在將來大量的用到TSV。

• PoP(PackageonPackage，堆疊封裝）：PoP是一種將分離的邏輯和存儲BGA(Ballgridarray，球狀引腳柵格陣列）包在垂直方向上結合起來的封裝技術。在這種結構中，兩層以上的封裝單元自下而上堆疊在一起，中間留有介質層來傳輸信號。PoP技術增大了器件的集成密度，底層的封裝單元直接與PCB板接觸。傳統的PoP是基於基板的堆疊，隨著存儲器對高帶寬的需求，球間間隔要求更小，未來將會與FOWLP技術相結合，做基於芯片的堆疊。
  

• MEMS封裝：微機電系統在近些年應用越來越廣泛，隨著傳感器、物聯網應用的大規模落地，MEMS封裝也備受關注。MEMS的封裝不同與集成電路封裝，分為芯片級、模組級、卡級、板級、門級等多元垂直分級封裝，設計時也需考慮不同模組間的相互影響。目前MEMS封裝市場規模在27億美元左右，2016~2020年間將會維持16.7%的年複合增長率高速增長。其中RFMEMS封裝市場是主要驅動，2016~2020年間，年複合增長率高達35.1%。

在整個MEMS生態系統中，MEMS封裝發展迅速，晶圓級和3D集成越來越重要。主要的趨勢是為低溫晶圓鍵合等單芯片集成開發出與CMOS兼容的MEMS製造工藝。另一個新趨勢是裸片疊層應用於低成本無鉛半導體封裝，這種技術可為量產帶來更低的成本和更小的引腳封裝。但是，MEMS器件的CMOS和3D集成給建模、測試和可靠性帶來挑戰。

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