眾所周知，芯片技術一直科技行業比較看重的一門，畢竟一個小小的芯片能夠帶給我們生活和工作相當多的方便，不管是手機還是電腦，談來談去還是離不開芯片的存在。自從芯片面世之後，芯片技術就一直在升級，不管是工藝還是密度還是體積大小，都在不斷的改進。不過隨著技術的升級，芯片的製造難度也在不斷的提高。截止到目前為止，芯片巨頭英特爾這麼長時間以來，還是在14nm技術徘徊，並沒有大範圍的採用10nm技術，不得不說，這是一個瓶頸。
不知道大家是否還記得當初的90nm芯片工藝技術，當時在很多人看來已經十分的先進了，但是隨後65nm、45nm、22nm等技術不斷地問世，也在不斷地刷新著我們的認知，目前最新的技術已經是臺積電的7nm+EUV工藝。但是自從22nm之後，芯片的工藝升級幅度開始逐漸的縮小，從原先的幾十nm幅度，如今變成了幾nm幅度，並且還在不斷的縮小，每一次升級都非常的困難。
其實這種情況總體來說還是技術的問題，因為現在研發芯片的主要技術採用的還是英特爾當時的22nm芯片技術——FinFET。雖然晶體管技術先進，但是也存在著一定的天花板，那就是納米數大小有限制，目前晶體管最小能夠達到的納米數基本在4nm。更小的工藝就需要採用其他的技術來支持，而在很多人的印象中，這種突破技術瓶頸的活，基本都是芯片巨頭臺積電或者是半導體霸主三星來幹，畢竟這兩家是目前世界級的巨頭。
但是近日，我國的中科院宣佈了一個好消息。根據中科院的相關人員表示，我國國內的科學家發明出了一個新型的晶體管——垂直納米環柵晶體管。該項技術被認為是未來2nm及以下的芯片製造主要技術之一。而該項技術目前也已經在國際期刊上發表，也已經獲得了美髮明專利授權，這對於我國的芯片行業來說是一個相當不錯的好消息，打破了我國半導體的寒冬期，不少人都將這次的突破稱之為“破冰行動”，想必這也是讓美國沒有想到的。
從目前的形式來看，我國已經能夠升任芯片的設計工作，像阿里、華為、紫光這種企業已經能夠研發出相當厲害的芯片。但是製造行業一直都是我國的絆腳石，沒有什麼太大的發展，此次國內科學家發明出這項技術可謂是幫助我國在芯片製造行業中進行了一次重大突破，也為國內未來製造芯片起了一個好的帶頭作用。
相信我國這一技術的崛起也讓美國沒有想到，畢竟我國在這方面一直都比較弱勢，近幾年才發生改變，雖然總體上和美國這種科技大國差距還很大，但是進步速度之快讓很多感到驚訝，照這種速度下去，在芯片行業中，我國很快就能夠達到美國或者是日韓這種半導體地步，比肩巨頭。
不過未來還有一個重要的技術，那就是光刻機，不知道國內的科學家何時能夠突破該技術，讓我國在半導體行業中真正的實現崛起，比肩其他發達的國家。
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