12.10 美國普渡大學研製出新型鐵電半導體場效應晶體管

導讀

據美國普渡大學官網近日報道,該校工程師將晶體管與鐵電隨機存取存儲器結合成一種新設備,該設備集信息處理與存儲功能於一身。

背景

如今,數字計算機,特別是超級計算機,已具備非常強大的計算能力。但是面對某些複雜問題時,傳統計算機還是無法勝任,不能像人腦那樣低能耗、高效率地進行運算並解決問題。

美國普渡大學研製出新型鐵電半導體場效應晶體管

(圖片來源:Vladimir Kukulin)

這個問題的主要原因是,傳統計算機大多采用了馮·諾依曼體系結構。馮·諾依曼體系結構是由美籍匈牙利科學家馮·諾依曼(John von Neumann)於1946年提出的。

美國普渡大學研製出新型鐵電半導體場效應晶體管

在馮·諾依曼體系結構中,存儲器存儲程序指令和數據;處理器執行指令與處理相關數據。可是,存儲器與處理器是完全分離的兩個單元,數據需要在處理器與內存之間來回移動。隨著計算機技術不斷進步,處理器速度不斷提高,內存容量也不斷擴大,可是內存訪問速度的增長卻緩慢,成為了計算機整體性能的一個重要瓶頸,也就是所謂的“內存牆”問題。因此,無論硬件可以做得多小或者多快,架構中都存在著這樣一個固有的瓶頸。

相比之下,人腦優勢明顯。它不僅可並行處理和存儲大量數據,而且能耗極低。人腦處於全方位的互聯狀態,其中的邏輯(處理信息)和記憶(存儲信息)功能緊密關聯,其密度和多樣性均是現代計算機的數十億倍。

美國普渡大學研製出新型鐵電半導體場效應晶體管

(圖片來源:Olivia Wang, Peng Cheng Laboratory)

因此,科學家們希望從人腦結構中汲取靈感,來解決傳統計算機所固有的問題。他們試圖模仿人腦的神經元與突觸,在同一地點處理和存儲信息。為此,他們努力打造了許多新型器件,其中比較典型的有憶阻器、光學類腦計算芯片等。

下圖中,左圖展示了生物大腦中的一個突觸,也是右圖中人工模仿物的靈感來源。右圖是用鐵電隧道結實現的憶阻器,即夾在氮化鈦電極(藍色線)和硅襯底(海藍色)之間的氧化鉿薄膜(粉紅色),硅襯底的另一個角色就是第二個電極。通過改變氧化鉿的極化,電脈衝使憶阻器在高低電阻之間切換,從而改變其導電性。

美國普渡大學研製出新型鐵電半導體場效應晶體管

(圖片來源:Elena Khavina/MIPT新聞辦公室)


美國普渡大學研製出新型鐵電半導體場效應晶體管

基於光線的腦啟發芯片示意圖。(圖片來源:Johannes Feldmann)

創新

今天,筆者要為大家介紹美國普渡大學工程師們開發的新方案,它旨在將存儲器與處理器結合成為一個設備。這樣一來,芯片上就會騰出更多的空間,從而運轉得更快速、更強大。在這個方案中,過去常常用於處理信息的數百萬個微型開關(晶體管),成為了集存儲與處理功能於一身的設備。

美國普渡大學研製出新型鐵電半導體場效應晶體管

(圖片來源:普渡大學/Vincent Walter)

研究人員們在《自然·電子學(Nature Electronics)》期刊上詳細描述了這一方案。該方案通過解決另一個問題來實現這個目標,也就是說,將晶體管與所謂的“鐵電隨機存取存儲器(ferroelectric RAM)”結合起來。鐵電隨機存取存儲器比大多數計算機中使用的存儲技術性能更高。

技術

數十年來,研究人員們一直嘗試將信息處理與存儲功能合二為一,但問題出現在鐵電材料與硅(組成晶體管的材料)之間的界面上。相反,鐵電隨機存儲器作為芯片上的獨立單元來運行,限制了它讓計算變得更高效的潛力。

普渡大學電氣與計算機工程系教授葉培德(Peide Ye)領導的團隊找到了破解硅與鐵電材料之間死敵關係的方法。

葉教授表示:“我們採用具有鐵電特性的半導體。這樣一來,兩種材料變成一種材料,你不必再擔心界面問題。”

結果就製造出了一種所謂的“鐵電半導體場效應晶體管”,它與目前計算機芯片上所用的晶體管的製造方法相同。

α-In2Se3 這種材料不僅具有鐵電特性,還可以解決傳統鐵電材料通常用作絕緣體而不是半導體的問題,這個問題是由於所謂的寬“帶隙”,也就是說,電流無法通過,也沒有進行計算。α-In2Se3 的帶隙要窄得多,在成為半導體的同時又不會喪失鐵電特性。

普渡大學電氣與計算機工程系博士後研究員司夢偉(Mengwei Si,音譯),構造並測試了這種晶體管,發現其性能堪比現有的鐵電場效應晶體管,並且通過更多的優化可以超越它們。普渡大學電氣與計算機工程系助理教授 Sumeet Gupta 以及博士研究生 Atanu Saha 提供了建模支持。

司夢偉與葉培德的團隊也與佐治亞理工學院的研究人員合作,將 α-In2Se3 構造到芯片上的一片空間中,這片空間也稱為鐵電隧道結。工程師們可用它來提升芯片性能。12月9日,團隊在2019年度國際電子設備會議上展示了這項成果。

過去,研究人員們一直都無法構造高性能的鐵電隧道結,因其寬帶隙使材料太厚,以至電流無法流過。然而 α-In2Se3 的帶隙要窄得多,因此材料厚度僅為10納米,可允許更多電流流過。

葉教授表示,較多的電流讓器件面積可縮小至幾納米,使芯片更密集、更節能。較薄的材料,甚至薄至一層原子的厚度,也意味著隧道結兩側的電極可以變小很多,從而有利於構造模仿人腦神經網絡的電路。

關鍵字

芯片、晶體管、鐵電材料

【1】Mengwei Si, Atanu K. Saha, Shengjie Gao, Gang Qiu, Jingkai Qin, Yuqin Duan, Jie Jian, Chang Niu, Haiyan Wang, Wenzhuo Wu, Sumeet K. Gupta, Peide D. Ye. A ferroelectric semiconductor field-effect transistor. Nature Electronics, 2019; DOI: 10.1038/s41928-019-0338-7

【2】https://www.purdue.edu/newsroom/releases/2019/Q4/reorganizing-a-computer-chip-transistors-can-now-both-process-and-store-information.html


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