光刻是整個集成電路製造過程中耗時最長、難度最大的工藝，耗時佔IC製造50%左右，成本約佔IC生產成本的1/3。光刻膠是光刻過程最重要的耗材，光刻膠的質量對光刻工藝有著重要影響。
隨著下游應用功率半導體、傳感器、存儲器等需求擴大，光刻膠市場需求逐年增加。不過，我國光刻膠行業發展起步較晚，目前國產光刻膠生產商主要生產PCB光刻膠，面板光刻膠和半導體光刻膠生產規模相對較小。在國內生產的光刻膠中，PCB光刻膠佔比94%，LCD光刻膠和半導體光刻膠佔比分別僅有3%和2%。可見，國產光刻膠在TFT-LCD、半導體光刻膠等高端產品產能嚴重不足，仍需大量進口。
為了鼓勵及推動光刻膠行業發展，政府給予了大量政策支持，為光刻膠行業的發展提供了良好的環境氛圍。與此同時，國內廠商也將不斷提升對於國產光刻膠的接受程度，給予國內優質的光刻膠廠商快速成長的機會。
技術存在差距依賴進口
作為芯片生產製造中，必須使用的關鍵材料，光刻膠如果不能實現國產化發展，那就意味著我們的芯片生產製造始終面臨“卡脖子”的難題。所以發展國產芯片不僅要重視研發設計層面，在關鍵材料領域也要實現國產化，尤其是光刻膠應用的關鍵材料。
為了推動光刻膠等材料國產化發展，國家也推出了相關政策支持產業發展。如2017年12月，發改委印發《新材料關鍵技術產業化實施方案》，提出發展高端專用化學品，包括KrF(248nm)光刻膠和ArF光刻膠(193nm)，為大型和超大型集成電路提供配套。
在國內政策推動下，中國光刻膠得到快速發展。目前，國產PCB光刻膠具備了一定的技術和量產能力，已經實現對主流廠商大批量供貨。A股上市公司容大感光、廣信材料、東方材料、 飛凱材料、永太科技等企業佔據國內 46%左右溼膜光刻膠和光成像阻焊油墨市場份額。而在技術門檻更高的LCD光刻膠、半導體光刻膠， 國內也有所突破，部分企業已經處於客戶驗證階段，或者少量供應階段。
國內企業的快速佈局，也帶動光刻膠市場規模增長。根據數據顯示，2018年，中國光刻膠需求量在8.44萬噸，市場規模約為62.3億元。
國產光刻膠市場規模雖大，但是我國光刻膠主流應用還是集中在 PCB 用光刻膠，佔比超 90%，結構較為單一，產品以低端為主，而高端光刻膠產品供應不足。
對於高端光刻膠供應不足的問題，一位材料企業負責人對集微網表示，“在光刻膠研發上，我國起步比較晚，雖說近幾年有了一定的發展，但整體還處於起步階段。事實上，工藝技術水平與國外企業有著很大的差距，尤其是尖端材料及設備都仍依賴進口。”
和君諮詢分析師劉延也對集微網表示，“半導體制造需要進行幾十道工序，涉及一大堆材料，如果某一個環節出現問題，都會影響到產品的良率，良率上不去，成本就難以降下來，最終會影響產品競爭力。”他認為，目前，有幾家國內企業能生產LCD、半導體光刻膠，不過大多還處於送樣驗證階段，具體到量產、應用，估計還需要幾年的時間。
近年來，我國政府對光刻膠等關鍵材料扶持力度較大，光刻膠技術也取得一定的突破，但整體技術水平與國際先進水平仍存在較大差距；尤其是在LCD光刻膠、半導體光刻膠等高端應用領域。
高端光刻膠處於送樣階段
目前，我國光刻膠技術雖與國際先進水平存在差距，但在政府的大力支持下，國內光刻膠企業也不斷加大研發投入，展開外延及各類合作，少數企業在中高端技術領域已取得一定的突破，產品也逐步從低端PCB光刻膠朝中端LCD光刻膠、半導體光刻膠等領域發展。
據公開資料顯示，北京科華和蘇州瑞紅g線光刻膠、i線光刻膠均聚得量產。北京科華KrF光刻膠通過了中芯國際認證，ArF光刻膠處於研發階段。上海新陽KRF光刻、ArF光刻膠處於研發階段，膠飛凱材料的溼膜光刻膠、永太科技的彩色/黑色光刻膠處於項目建設階段。
一位光刻膠的原料企業對集微網表示，“目前，我們公司的原料主要是供應國外光刻膠企業，而在國內市場方面，由於國內中高端光刻膠還未能實現量產，公司主要是配合國內企業搞研發。”
和君諮詢分析師劉延也對集微網表示，“目前，國內部分企業能生產193nm的DUV光刻膠，不過還需要經過客戶端測試、考核、認證等，完成這些節點需要的時間比較長，但只要驗證通過，後面生產高端光刻膠就比較順利了。”
可見，國產高端應用的光刻膠大多還處於研發或者送樣階段，與國外企業有很大的差距。不過，隨著國內企業持續加大研發投入和創新，高端光刻膠國產化進程有望提速，這將逐漸降低我國對高端光刻膠的進口依賴程度，加速提升高端光刻膠國產替代的發展空間。
晶瑞股份: 該公司光刻膠產品已經通過中芯國際上線測試並取得訂單。
光華科技: 光刻膠化學試劑+氫氟酸
西隴科學: 光刻膠化學試劑
南大光電: 超募資金投資”ArF 光刻膠產品的開發與產業化”項目
飛凱材料: PCB光刻膠專用化學品
強力新材: PCB刻膠專用化學品（圖源｜網絡）
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