在現在的發展過程當中，為了能夠有一些更高技術來作為支撐實力，就會有很多方面的整體提升，在現在的一些製造領域其實最受大家關注的就是芯片技術，由於信息技術以及智能化更加融入人們的生活。
所以建議技術的突破也更受到大家的關注，但是我國的芯片製造企業誰有著比較大的缺陷，我國在芯片製造上發展比較慢，因此在技術研製上也是落後於其它國家的，雖然說我國現在在芯片製造領域有實力發展的臺積電，以及後期發展已經跟上來的中心集團，但是整體的差距還是比較明顯的。
芯片技術的在現在涵蓋的領域比較多，但是對實力的要求也更高，尤其是在它的基礎製造機器光刻機上，現在擁有這一技術大觸的就是荷蘭的ASML公司。這家公司不論是在技術研製還是在產品開發等都是新建知識產業的大佬，我國也從他們公司進了一些光刻機，但是卻並不是大家一直期待的EUV光刻機。
這款光刻機是目前為止芯片製造領域最好的一種光科技，他們即使有了這樣的研發能力，絕對不會將這一機器直接出口至其他國家！
因此想要得到這一款光刻機，也許只能在他們開發出新產品之後才有，但是為了能夠在產業方面有所突破，我國的中芯集團就有一些新技術的投產。
梁孟松還透露中芯國際最新研發出了N+1和N+2工藝，這兩種工藝非常接近目前最為流行的7nm工藝，7nm的芯片技術算是現在我國在集中投入研製的一個，而如果n+1和n+2的工藝能夠完全的包攬這一技術，我們就不必再等荷蘭的EUV光刻機進入中國就能夠完成量產，這種不需要靠其他國家的及家屬支持，在現在發展的模式也讓大家更為期待。
其中N+1工藝計劃於2020年年底正式投產，並且對比於傳統的光刻機的技術而言，這樣的芯片技術研製能夠在性能上對芯片提高20%，在成本上也會大幅度的降低，更讓大家開心的是這一技術是我們自己研發的。
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