栃木縣小山市 -- (美國商業資訊) -- 2020年4月14日、半導體光刻光源製造商Gigaphoton株式會社（總部：栃木縣小山市、董事長兼總經理：浦中克己）宣佈，採用半導體制造光刻光源技術的GIGANEX系列新產品、KrF激光器“G300K”已於3月出廠。
KrF激光器“G300K”是以本公司光刻光源KrF激光器技術為基礎，將微燒蝕等“加工優化”作為理念，在保持高穩定性、99%以上運轉率以及高輸出的同時，實現了低價格的機型，從而為提高半導體制造後端工序中微燒蝕通孔加工工序的生產性以及降低成本提供了幫助。
由多個芯片構成的新一代半導體封裝不僅需要更小的外部尺寸，同時還需要維持較高的動作頻率、帶寬等，提高電力效率，保持低製造成本。近年來，為滿足這些要求，封裝技術的細化受到人們關注，因此，層間連接通孔的微小化也勢在必行。由於可以高速且低成本地進行加工，因此有機絕緣膜的微燒蝕通孔加工備受矚目，但具有有利於微細化的短波長以及兼備高輸出、高產量的248nm波長KrF準分子激光“G300K”可謂是作為光源的最佳選擇。
Gigaphoton董事長兼總經理浦中克己表示：“GIGANEX系列新產品、G300K能夠滿足客戶的廣泛需求，併為提高生產性及削減成本做出貢獻。廣泛領域的客戶對半導體制造以外領域的GIGANEX系列新技術解決方案寄於了厚望。今後我們將繼續努力，讓GIGANEX系列產品運用於全新應用領域，併為新一代產業界的發展做出貢獻。”
GIGAPHOTON公司簡介
GIGAPHOTON公司成立於2000年，作為一家激光器的供應商，自成立以來一直為全球的半導體生產廠商提供有價值的解決方案。GIGAPHOTON時刻以客戶為中心，從產品研發到生產、銷售及維護，為用戶提供業界最高水準的支持。更為詳細的介紹請您訪問：www.gigaphoton.com。
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