為什麼中國的光刻機技術區別那麼大?來看看就知道了!

這個話題其實要從更加深層次來理解,因為是全面的差距,其實荷蘭ASML技術先進更多的是因為集各家之所長,而且要買他的光刻機首先要加入他的大家庭,說直白一點就是入股,所以這也是他強大的原因。


國能量產最先進光刻機是它
目前我國能量產的最先進光刻機是90nm工藝,由上海微電子(簡稱SMEE)生產,這點和荷蘭asml生產的7nm光刻機可不是一代二代的差距,完全是天壤之別,在整個產業鏈中我們就是屬於低端產品,連中端都算不上。目前整個光刻機市場是荷蘭佔據8成的高端市場,中端主要是日系廠商尼康佳能,剩下我們國產的光刻機只能用於國內一些低端市場(SMEE佔了80%的份額),而這個低端市場asml未來也想吃掉,因為隨著國內半導體行業的發展,已經成為全球第二大光刻機市場,潛力巨大。當然,這些年SMEE研發工作一直沒停過,差距也再一點點的縮小,早在2018年時已經在驗證65nm工藝的光刻機,從時間上來說已經差不多可以量產了,剩下45nm工藝的光刻機也在研發中。

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較大的差距在這裡
那麼為什麼我國的光刻機會和荷蘭asml出現較大的差距?如果要深究的其實就兩點,一是歐美西方國家對我國的封鎖,二是國產配件跟不上,現在荷蘭的ASML企業,其實已經可以生產EUV工藝的7nm技術光刻機,而且就目前的情況來看值之前尼康和佳能,都算是生產光刻機方面相對比較有實力的,但是因為荷蘭的ASML的強大,不管是從交付量,還是從交付的速度來看,都遠超了其他兩者,所以尼康和佳能現在已經停止對光刻機方面的一些業務,所以就導致了目前ASML成為了最大。荷蘭asml光刻機之所以能做成,最關鍵的一點就是能在全球範圍內拿到最好的配件,如德國蔡司的鏡頭,美國的光源系統,瑞典的軸承。據瞭解,asml7nmlpp將採用從asml採購euv光刻機,日產能為1500片,asml拿到這些配件在經過自己的精密設計和製造將其打造成一臺完美的高端光刻機。

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這些因素直接影響到了產品
這也是說我們為什麼在光刻機方面落後了十年的這種說法的原因,我們不得不承認別人的強大,確實在早些年,因為進出口方便,中國的科技企業為了更快速的發展,比如之之前的聯想,以及等等其他企業都是採用這種方式,而這些年漸漸穩定之後,政府,包括一些企業才會有重新開始研發,所以相對來說落後很多,而且來自於國外的壓力也限制了很多,就拿光刻機來說。我們現在最高技術是90nm,生產出來的光刻機處於低端,不過也只能生產90nm的芯片,而在90nm之後,還有65nm,45nm,32nm,22nm,14nm,10nm,7nm,5nm。這些其實都是慢慢在積累,而且這不是跳躍的,而中芯國際進口EUV工藝7nm,也是因為種種原因沒有交付,不過7nm光刻機已經正式進入國內,雖然不是自研發,但是至少我們有這樣的能力,而在自研發方面,也只能說慢慢來。

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這些事結構上的差距
從結構來說。其實我們來總結一下就是:鏡頭,核心技術是分辨率和套刻精度。鏡頭這東西目前主要是採購,比如從日本佳能、尼康來採購,這些其實是沒有問題的,不過他們也不是最先進,不過更加重要的是分辨率、套刻精度就要靠裝配工藝了,這些技術積累可以說是實打實的,而ASML我們說過了你要購買他的,就必須要他入股,所以導致了他的強大,而且他不管是人才儲備方面,還是說原材料供應,其實都是來自於德國的光學設備、美國的計量設備等等,不僅僅是技術,原材料供應,人才,這些其實相比佳能,以及尼康的要更加先進,包括就是人工技術方面,他們確實在採用先進的元器件的同時,也要求高端科技人才,這才是最難的地方。

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綜合來說,荷蘭asml能打造出全球領先的光刻機是因為其背後整個發達的歐美產業鏈,是西方資本以及整個半導體工業合力堆砌出來的企業,沒有這些企業asml也是白搭。


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