說起半導體領域，其實一直是我們國家的一個弊端，這不是說我們國家不具備生產的能力，其實縱觀外國的先進技術，我們國家的技術確實略有不及，甚至可以說是有些落後，曾經在這個領域中，做得最好的國家是日本，但是由於中途美國的出手，也導致接下來美國硅谷地位一步步向上移動。現如今美國的技術確實十分發達，芯片技術已經達到了5nm，現如今我國還處在14nm的階段，中間顯然有著很大的差距，伴隨著現代科技要求越來越高，我們對於芯片的精密需求也是越來越大，這也導致目前我國的企業芯片，基本都依賴於外國進口。
但是話說我國並不是沒有技術，而且缺少芯片製造的專屬設備，他便是光刻機，所謂的光刻機，它的製造精度十分精細，這也是我們人無法到達的程度，所以如果不用這款機器的話，精密程度是完全達不到的，而就在近期中科院則傳來了喜訊，目前我們已經有了2nm的芯片技術，但缺少光刻機，目前我國的相關芯片製造，則都交到了臺積電，而出於對方的不懈努力，目前他們的技術已經可以實現5nm的技術，只是針對3nm以及2nm的工藝，現在大家還在探索之中。
對此美國也經常對其進行壓力的實施，並試圖從中減少國內企業芯片代工，近期還提出了禁止華為芯片使用美國技術進行生產，目前華為也開始與國企中芯國際合作，但由於目前的技術，還處在14nm剛起步階段，所以目前也沒有先進的工藝技術得以支持我國的技術發展。
此時的中科院遇到的，則是和對方相同的情況，對方的技術停留，目前主要是因為光刻機方面的技術欠缺，這也導致芯片技術無法實現，這也導致中科院空有一身技術，卻無處施展，只能靠一個數據來支撐概念。而此次中科院研發出的先進技術，更是連ASML公司也沒有的工藝，所以不難看出，此次中科院的研究成果十分超前，此次的成功研發，對於國內企業也有著很好的激勵作用，雖然目前這項技術並不能投以使用，但是目前我們已經贏在了起跑線上，目前我國的半導體也在努力發展之中，雖然不能立馬拉近與世界上的差距，但是想必現如今我國的半導體行業，也只差光刻機這個東風了。
