日前，华力在上海浦东新区康桥工业园南区的工厂迎来了首台浸没式光刻设备，这台光刻机（NXT 1980 0DI）仍然由荷兰ASML提供，193nm的双浸入式光刻技术，用于10nm（14～20nm）晶圆的生产，同时也是国内最先进的浸没式光刻设备。
今年以来，国内各大芯片企业对于光刻机的引进非常频繁，在四月份，中芯国际斥资7.6亿人民币从ASML购买EUV极紫外光刻机，打算未来用于生产7nm技术芯片。同样是ASML，长江存储在上月也迎来了自己的首台光刻机，193nm浸没式，20～14nm技术用于3D NAND闪存晶体，售价高达4.5亿人民币。
光刻决定了半导体线路的精度，以及芯片功耗与性能，相关设备需要集成材料、光学、机电等领域最尖端的技术，被誉为是半导体产业皇冠上的明珠。阿斯麦在行业中居绝对领先地位，占有中高端设备 8成的份额;其它主要光刻设备厂商为尼康与佳能，但因产品开发上不如阿斯麦具有灵活性，并且在浸没式光刻产品上错失关键时间点，目前市场份额大幅落后于阿斯麦，近年的研发投入与资本支出已经大幅落后，在先进制程上落后 1至 2代的技术能力。目前ASML的光刻机订单已经排到了2019年下半年。
华力12英寸先进生产线建设项目是上海市最大的集成电路产业投资项目，总投资387亿元人民币，项目计划于2022年底建成投产，主要从事芯片生产，重点服务国内设计企业先进芯片的制造，并满足部分事关国家信息安全的重点芯片制造需求。
大量的企业涌入芯片制造领域，这势必会给国内芯片行业带来相当大的活力，特别是目前国家对于芯片制造相当重视。
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