指甲蓋大小的芯片，密佈千萬電線，紋絲不亂，需要極端精準的照相機——光刻機。光刻機精度，決定了芯片的上限。
我們的光刻機，為何造不出7nm的芯片？
可以投射出電路圖案的微影機臺是光刻機最關鍵、也最昂貴的部件。過去十多年，英特爾、臺積電量產的最先進電晶體，大小已細小到僅有數十個納米。依照該技術的主要推動者英特爾規劃，2005年就該上陣，量產時程卻一延再延。 就因為這個技術實在太難了。
最關鍵零件之一，由德國蔡司生產的反射鏡得做到史無前例的完美無瑕，瑕疵大小僅能以皮米（納米的千分之一）計。 也就是說如果反射鏡面積有整個德國大，最高的突起處不能高於一公分高。
光刻機跟照相機差不多，它的底片，是塗滿光敏膠的硅片。電路圖案經光刻機，縮微投射到底片，蝕刻掉一部分膠，露出硅面做化學處理。製造芯片，要重複幾十遍這個過程。
位於光刻機中心的鏡頭，由20多塊鍋底大的鏡片串聯組成。鏡片得高純度透光材料+高質量拋光。SMEE光刻機使用的鏡片，得數萬美元一塊。ASML的鏡片是蔡司技術打底。鏡片材質做到均勻，需幾十年到上百年技術積澱。“同樣一個鏡片，不同工人去磨，光潔度相差十倍。”SMEE總經理賀榮明說，他在德國看到，拋光鏡片的工人，祖孫三代在同一家公司的同一個職位。另外，光刻機需要體積小，但功率高而穩定的光源。ASML的頂尖光刻機，使用波長短的極紫外光，光學系統極複雜。
有頂級的鏡頭和光源，沒極致的機械精度，也是白搭。光刻機裡有兩個同步運動的工件臺，一個載底片，一個載膠片。兩者需始終同步，誤差在2納米以下。兩個工作臺由靜到動，加速度跟導彈發射差不多。
SMEE最好的光刻機，包含13個分系統，3萬個機械件，200多個傳感器，每一個都要穩定。像歐洲冠軍盃決賽，任何一個人發揮失常就要輸球。
看來要提高光刻機生產水平，關鍵是配套設備企業的精度和長期持久的努力，而這，或許正是中國企業的短板。加油吧，我的國！
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