最近传来一个好消息，经历了七年以及很多科学家的艰苦奋斗，我们国家终于在芯片制造行业出现了很大的进展。就是以前一直在钻研的"超分辨光刻装备研制"项目最终还是取得了成功，简单来说，就是现在我们拥有了一种非常强大的光刻机。
可能很多人对光刻机并没有太深的了解，其实就是在制造芯片的时候必不可少的一种设备。想想之前，我们国家在芯片这个领域一直受到其他国家的限制，因为我们之前一直没能有这样好的技术，所以就不得不有求于人，所以更加助长了其他国家的志气，而我们现在就不需要再去寻求别人这样的帮助了。
其实从央视的报道我们也可以看出这一技术成功的重要意义，不仅打破了国外在这一领域多年的控制，并且帮助我们在纳米行业提供了一种新的途径去解决问题，更是可以在信息技术，生物科学一些其他的领域起到很关键的作用。
再一个就是如果我们现在的技术已经达到了世界水平，所以不会再受到其他国家的限制，就算他们不再给我们提供帮助我们依然可以在这个技术上实现更加的完善，甚至有一天我们可以超过其他国家的技术水平。
所以我们非常关心这个技术到底能够做到什么程度呢？我们自己的这个光刻机，采用的是365 纳米波长光源，而世界上的大部分是193纳米波长婶子外激光，可以分辨38纳米，而我们国家这台可以做到22纳米。一般来说，为了追求更小的纳米工艺，都是会使用波长更短的光源，而我们的这台在未来甚至可以实现10纳米的技术。
可能很多人明白，在这种非常重要的技术上，尤其是需要这么多年才能研究成功，制造成本或者是未来的使用成本也会更加高。但我们国家的这台光刻机，使用的是非常普通的紫外光，所以不仅实现了非常高的分辨力，还会减少很多的成本投入，不得不感慨这些科学家的伟大。所以我们也期待更多的高科技被我们改造成技术一样，但是成本更低的水平。
当然任何技术刚刚面试总会有一些局限性，所以并不意味着我们国家的芯片技术就能立刻成为世界一流水平，而且本来芯片的制造就是一个很精细而且庞大的事业，所以我们要给予这些人更多的时间去试验更加合适的方法，把现在的技术和芯片更加完美结合在一起。
还有一个原因就是现在的光刻机也是有一些缺陷的， 尽管在一些领域已经可以更大胆的运用到这个技术，但是在IC制造领域还不能够达到更实用的水平，所以在这方面还是需要更大的突破。但是在如今的局面下制造出这么成功的光刻机还是值得我们感到开心的，这不意味着结束，意味在这方面我们已经有了足够的影响力，所以可以预见我们国家肯定会能够有更长足的发展。
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