据报道，由中国科学院光电技术研究所承担的国家重大科研装备——超分辨光刻装备项目近日在成都通过验收，这是我国成功研制出的世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备。
超分辨光刻装备核心部件纳米定位干涉仪以及精密间隙测量系统
该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米，结合多重曝光技术后，可用于制造10纳米级别的芯片。光刻机作为半导体芯片的“母机”，在半导体制造行业的作用不亚于高精度机床在机械加工领域。它对于我国半导体产业而言，是一个重大的突破。据悉，国产高精度光刻机研制成功后，已经先后成功制备出一系列纳米功能器件，包括大口径薄膜镜、超导纳米线单光子探测器、切伦科夫辐射器件、生化传感芯片、超表面成像器件等，验证了该装备纳米功能器件加工能力，已达到实用化水平。
中科院光电所科研人员展示利用超分辨光刻设备加工的超导纳米线单光子探测器
超分辨光刻设备加工的4英寸光刻样品
中科院光电所科研人员操作超分辨光刻设备
超分辨光刻装备用的超分辨镜头
众所周知，电子行业是一个目前已经实现高度军民融合的高科技行业，绝大多数元器件和相关技术，都能实现军民两用，因此高精度光刻机制造出的高精度半导体元器件，不光可以民用，在军用雷达、电子设备、高精度传感器上，也一样大有用武之地。国产光刻机投入使用，将大大提升我国电子工业的产品技术水平。
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