一，真空電鍍
真空電鍍（Vacuum Metalizing）：一種物理沉積現象。即在真空狀態下注入氬氣，氬氣撞擊靶材，靶材分離成分子被導電的貨品吸附形成一層均勻光滑的仿金屬表面層。
典型產品：反射塗層，消費電子產品和隔熱板的表面處理
產量適合：單件到大批量皆可
質量：高質量，高亮和產品表面保護層
速度：中等的生產速度，6小時/週期（包括噴漆）
二，電解拋光
電解拋光（Electropolishing）：以被拋光工件為陽極，不溶性金屬為陰極，兩極同時浸入到電解槽中，通以直流電離反應而產生有選擇性的陽極溶解，從而達到工件表面除去細微毛刺和光亮度增大的效果。
典型產品：建築結構，食物處理儲存和醫療製藥
產量適合：單件到大批量皆可
質量：表面高亮，光滑且衛生
速度：中等的生產速度，5-30分鐘/週期
適用材料
1.大多數金屬都可以被電解拋光，其中最常用於不鏽鋼的表面拋光（尤其適用於奧氏體核級不鏽鋼）。
2.不同材料不可同時進行電解拋光，甚至不可以放在同一個電解溶劑裡。
三，光蝕刻表面處理
光蝕刻表面處理（Photo Etching）：簡稱光刻，利用照相手段製作抗蝕膜像，用來保護表面，在金屬、塑料等上面，藉助化學腐蝕劑進行腐蝕產生表面紋理的方法。
典型產品：用於珠寶首飾，銘牌和獎盃的表面處理
產量適合：單件到大批量皆可
質量： 延長曝光和化學物質都可以實現光蝕刻表面處理
速度：中等的生產速度（50-100微米/5分鐘）
適用材料
1.大多是金屬都適合光蝕刻表面處理，最常見的有不鏽鋼，軟鋼，鋁，黃銅，鎳，錫，銅和銀。其中鋁材的光蝕刻速度最快，而不鏽鋼的光蝕刻速度最慢。
2.玻璃，陶瓷也適合光蝕刻表面處理，只是需要不同的光阻蝕劑和化學物質。
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