国产替代加速,芯片产业链发展任重道远

日前在港股上市的中芯国际表示,通过加大研发投入,旗下的14nm工艺制程芯片已经实现量产,根据中芯国际披露首批14nm技术已经可以用于汽车相关领域,超过之前预期实现量产,良率高达95%。除此之外,中芯国际通过从全球最先进的半导体生产设备商——ASML中购入价值1.2亿美元的EUV光刻机,为研发7nm工艺已做好准备。

中芯国际的14nm工艺目前已经走在了世界前列,仅次于中国台湾台积电、韩国三星、美国格罗方德,同时意味着国内芯片技术距离目前世界最高水平的7nnm、5nm芯片,仅差咫尺之遥。

国产替代加速 芯片产业快速发展

伴随着全球芯片技术的快速发展,目前国内芯片研发正进入加速追赶中。根据数据统计,在2019年上半年,整个半导体销售市场规模约为2000亿美元,其中65%芯片采用14nm制程工艺,仅10%左右的芯片采用7nm,25%左右采用10nm和12nm,14nm可以说是当下应用最广泛、最具市场价值的制程芯片工艺。中芯国际的这次突破为国产替代可以说是注入了一针新的强心剂。

目前除了中芯国际之外,目前红米Note8搭载的联发科芯片G90,已经实现了12纳米芯片工艺;而中兴通讯目前已经完成了7nm工艺的芯片设计并量产,目前5nm工艺的5G芯片正在研发中。

中国的芯片进口在2018年达到3100亿美元,出口则为500多亿美元,这其中存在多达2600多亿美元的贸易逆差,此外很多芯片我国的占有率是0或5%以内,巨大的国产替代的空间也给国内产业市场带来了新动力。

国产替代加速,芯片产业链发展任重道远

目前芯片领域迎来众多新玩家,百度、阿里巴巴、亚马逊等互联网公司相继进入人工智能芯片领域,推出或计划推出相应产品。除了龙头企业及互联网公司入局之外,国内其他芯片企业如长鑫存储、福建晋华、紫光集团等相继发力DRAM芯片领域,光明前景为上游产业链发展带来新机遇。

芯片产业快速发展 上游产业链开始“抬头”

众所周知,要想实现芯片的量产,离不开光刻机,但目前全球可以制造高端光刻机的国家只有荷兰阿和日本,我国受制于人的窘迫局面尚未改变。

但近日台积电宣布,已经开始7nm+EUV工艺的大规模量产,这无疑将大幅度提高EUV光刻机的数量增长。与此同时,国家集成电路产业投资基金也投资到包括光刻机、蚀刻机、大硅片等在内的半导体设备及材料领域,资本助力芯片产业上游发展。

但是从目前来看,不得不说,国产光刻机工艺与国际水平尚有巨大差距,光刻技术也有待突破,国产芯片产业未来发展还有漫长的道路要走。对于内地产业升级而言,高端芯片生产领域不再受制于人,才是真正意义上的“中国芯”完成。对于国家和企业而言,高端芯片制程工艺量产意义重大,更何况,中国还是世界上最大的智能手机生产地,实现芯片生产的独立自主意义非凡。

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