華為有沒有能力研究光刻機?

東北小陳故事


首先我們不否認華為是一個非常優秀的企業,其科研實力非常強悍,是目前我國擁有PTC國際發明專利數量最多的一個企業,而且華為在芯片設計方面也是處於行業領先的位置,華為旗下的海思芯片是目前我國最牛叉的一個手機芯片設計企業。



但客觀的說,按照目前華為的實力,其研發光刻機的難度並不大,但是想要研發出高端光科技,特別是14納米以上的光刻機難度是非常大的,在短期之內基本上不可能實現。

大家都知道,光刻機是芯片製造當中一個非常核心的設備,可以說是整個芯片產業當中最核心最重要的一個環節,光刻機的精度直接決定了芯片的質量。但是光刻機的技術含量是非常高的,是目前地球上技術含量最高,研發難度最大的產品之一,所以很多國家都不具備生產研發光刻機的實力,即便有些國家在航空航天,飛機大炮等方面技術很先進,但在光刻機面前卻無從下手,由此可見,光刻機的技術層面到底有多高。



光刻機的技術不僅僅體現在它自身的技術上,更關鍵的是它需要多個部門,多種技術相互融合而成,單靠某一個企業是不能完成的,而是需要多個企業,多個國家的共同支持。

比如ASML作為目前全球最頂尖的光刻機制造企業,它幾乎壟斷了全球14納米以上的高光刻機,也是目前全球唯一一家能夠生產出7納米光刻機的企業。但即便是這樣一個頂尖的光刻機企業,它也並不是單單靠自己力量走到今天,而是背靠多個國家多個企業的力量才走到了今天這個位置。比如asml的光源設備由美國企業提供,鏡頭由德國蔡司提供,此外包括三星,海力士,臺積電等芯片巨頭也給asml提供了技術支持和資金支持,也正因為如此,asml才能夠不斷強大,並把尼康佳能等競爭對手甩在了後面。

就目前情況來看,我國光刻機技術跟asml的差距是非常大的,目前我國擁有自主知識產權的光刻機只有90納米的,雖然45納米已經在試驗階段,但並沒有完全量產,類似中芯國際這種芯片代工企業的14納米生產工藝也都是進口的是asml的光刻機。

雖然過去十幾年我國對芯片行業的研發非常重視,也取得了積極的效果,但是在芯片製造的關鍵環節,光刻機的進度並不是很明顯,這裡面有一個很重要的原因,就是西方國家對我國芯片技術進行封鎖,涉及光刻機的一些關鍵技術和零部件基本上都是禁止對我國出口,所以在研發光客刻機的路上,我國基本上都只能慢慢摸爬滾打,總結經驗,然後不斷提高,這也是為什麼我國光刻機研發進度這麼慢的一個重要原因。



雖然過去十幾年我國在芯片設計上已經處於世界前列,比如目前華為已經具備設計7納米芯片的實力,但是我國的光刻機研發卻跟不上芯片設計的步伐,所以出現了目前芯片行業兩隻腳一隻長一直短的尷尬局面。

但即便是華為具備設計7納米芯片的實力,按照目前華為的實力,它也不具備研發和生產高端光刻機的能力,因為光科技的生產和研發涉及多種技術,如果完全由我國企業提供這些技術,想要在短期之內研發出高端光刻機難度是非常大的,即便是對於華為這種科研實力非常強的企業來說也是一樣。

不過好在最近幾年我國在光刻機研發方面好消息不斷傳來。比如2018年8月份,清華大學的研究團隊研發出了雙工作臺光刻機,這使得我國成為全球第二個具備開發雙工作臺光刻機的國家;隨後中科院光電所研發成功紫外超分辨光刻機,該光刻機光刻分辨力達到22納米,結合雙重曝光技術後,未來還可用於製造10納米級別的芯片;2019年武漢光電國家研究中心的一家團隊已經成功研製出一臺9nm光刻機,該光刻機使用遠場光學,雕刻最小線寬為9nm的線段,實現了從超分辨率成像到超衍射極限光刻製造的重大創新。

總之,目前我國光刻機技術跟世界先進技術仍然有較大的差距,但是這種技術差距正在不斷縮小,我相信在我國科研人員以及一些企業的共同努力之下,我國在不久的未來將可以自主生產中國高端的光刻機,從而擺脫西方國家對高端光刻機的技術壟斷。


貸款教授


    前兩天,有個朋友問我“光刻機是不是刻錄CD的機器啊,華為造不出來嗎?”。看來很多人不知道光刻機是怎麼回事,下文具體說一說。

    什麼是光刻機?

    簡單來說,光刻機是用來製造芯片的,比如手機處理器、電腦CPU、內存、閃存等,可以說半導體離不開光刻機。

    目前,最先進的EUV光刻機全球僅有荷蘭的ASML能生產,集成了全球最先進的技術,90%的關鍵設備均自外來,德國的光學技術設備、美國的計量設備和光源設備、瑞典的軸承,ASML要做的就是精確控制。

    最關鍵的是,這些精密的設備,對我國是禁運的,客觀上反應了我國和西方精密製造領域的差異。

    有錢也買不到

    既然無法生產最先進的光刻機,那麼可以從ASML那裡買到嗎?很難,原因有兩點。


    1)獨特的合作模式

    ASML有一個奇特的規定,只有投資了ASML,才能獲得優先供貨權,英特爾、三星、臺積電、海力士等在ASML中有相當的股份,形成了龐大的利益共同體。ASML的光刻機產量本來就不高,還被“抱團”企業搶走了大部分訂單。

    因此,我國的中芯國際2018年成功預定的7nm光刻機,至今仍未收到。

    2)瓦森納協定的限制

    《瓦森納協定》是一部全球性的法令,我國就在被限制的名單中,嚴格限制高技術向我國出口高新技術。因此,我國與發達國家在能源、環境、可持續發展等領域科技合作比較活躍,但是在航天、航空、信息、生物技術等高技術領域很少合作。

    回到半導體,也正是這個原因,從芯片設計、生產等多個領域,不能獲取到國外的最新科技。還可能因為一些“莫須有”的原因,被卡脖子。

    我國的光刻機技術水平

    目前,我國生產光刻機的廠家有上海微電子、中電科技等,但是製程工藝相對較低。上海微電子(SMEE)是國內最領先的光刻機研製單位,能夠穩定量產90nm的光刻機,距離荷蘭ASML的7nm工藝還很遠,而且ASML即將量產5nm工藝的光刻機。


    總之,我國生產的光刻機與世界先進水平有很大的差距,主要是因為西方技術封鎖造成的。同時因為很多原因,也無法買到最先進的EUV光刻機。這也驗證了那句話,只有掌握核心技術,才不會被“卡脖子”。

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Geek視界


很遺憾的告訴你,華為目前無法研究出光刻機。

光刻機是製造芯片的最核心設備之一。但至今為止,我國在光刻機方面一直沒有拿出手的成績。

那為什麼說華為無法研究出光刻機呢?

首先來了解下光刻機的原理。光刻機也叫曝光機,光刻簡單理解就是用光來製造電路結構。用光刻機來製造芯片的過程,實際上跟洗照片有點類似,我們把設計好的集成電路圖通過紫外光源用掩模板刻到硅晶圓上的過程。

光刻機的製造和維護需要高度的光學和電子工業基礎,世界上掌握這個技術的企業屈指可數,最好的光刻機企業是荷蘭的艾斯摩爾ASML。這家公司在光刻機技術上應該說遙遙領先,處於壟斷地位。排在ASML後面的是日本企業,尼康和佳能。

光刻機原理雖然簡單,但製造精度可以說是變態的高。比如ASML的7nm芯片工藝,要知道原子的大小在0.1納米,這個精度我國就無法制造。再比如光刻機超高精度的對準系統,要求近乎完美的精密機械工藝。

除以以外,光刻機並不是一項單獨的技術,一臺光刻機有超過80000個複雜零件,集成數百家的專利技術,它需要強大的整合能力,這使得光刻機很難被模仿。國外企業甚至放話:給你圖紙,你都造不出來。

我國的光刻機和芯片能力離世界水平還有很大差距,但是在中興事件後我們已經認識到製造高端芯片的重要性,國家政策也開始傾向這個領域。最後說一點,自主創新是進步的靈魂,我們一定要研發自己的核心技術。


宇宙中的一杆槍


華為肯定有能力研究光刻機呀,這還用置疑?聽說這一次美國拒絕提供C919訂購的發動機,華為又主動承擔了C919發動機的研製(其實華為幾年前都已經開始研製航空發動機啦)春季發佈會上就會有有關概念發動機的PPT展示


八零科技


不知道為什麼總是有人問這樣的說起來很無知的問題!

1、華為目前沒能力研發光刻機

目前光刻機最好的技術在ASML,可用於5、7nm的芯片製造,而中國量產的技術在90nm,相差至少是10年吧。

光刻機的核心技術究竟是什麼?從元件來看,核心設備是鏡頭,而核心技術是分辨率和套刻精度。鏡頭這東西目前主要是採購,比如從日本索尼、CANNO來採購,但分辨率、套刻精度就要靠裝配工藝了。ASML之前說公開圖紙,別人也造不出來,就是指裝配工藝可不是按圖紙就能夠造出來的,需要幾十年積累,這一方面華為目前沒有,中國廠商都沒有,所以華為造不出來。


2、未來估計也不會去研發光刻機

前面已經講過了,華為目前沒有能力造光刻機,那麼未來有沒有能力,這個就不好說了,但我覺得未來華為估計也不會去研發光刻機。

雖然現在來看,似乎華為什麼都做,從原本的通信設備廠商,到手機,電腦,芯片,操作系統、雲等等。

但華為也是有自己的邊界的,這些年的業務延伸,更多的還是基於自己的業務慢慢去擴散,以通信技術、AI等為基礎。

很明顯,光刻機是半導體制造領域,並不是華為需要去幹的事情,所以未來大概率不會去做光刻機。


3、華為並不需要什麼都去做,也沒這個必要

最後再說說,很多人總是莫名其妙的,其實一旦企業強了,就什麼都要幹,什麼都能幹,這是不正確的,就算企業想要多元化,也是有自己的邊際,有所為有所不為。

華為並不需要什麼都做,坦白講,華為也沒有這個能力,也沒這個必要,所以關於光刻機,就不要強行往華為身上套了。


互聯網亂侃秀


華為有沒有能力研究光刻機?我們沒有華為是萬萬不能的,但華為也不是萬能的!目前華為是沒有這個能力。不過按照光刻機的原理,只要華為大手筆投入從全球廣泛挖來光刻機研究人才投入到光刻機的研發中去,是可以研發出來的。

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光刻機可以說是需要最頂尖精密的儀器之一,技術含量高而且零部件也高,涉及到系統集成、材料、精密光學、精密運動、精密物料傳輸、高精度微環境控制等等各種先進的技術。但光刻機的原理並不是不能攻克的,就如目前國內的上海微電子設備集團就已經有自己的光刻機,雖然是低端光刻機原理是差不多的。

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不過可惜的是,只是研發出來沒啥用,沒有相關高精細零部件的配套,也是空話一句。也就是製造不出來,不能達到製造高端芯片的要求。如果只是研發出低端光刻機也沒啥用,國內市場已經具備而重複了,我們要的是高端光刻機。


光刻機的市場需求量小,基本上被荷蘭ASML、日本尼康、國內上海SMEE公司所壟斷。上海SMEE公司具備研發和生產光刻機的能力,但不能研發高端光刻機而且更沒有辦法引進高端高精細零部件而沒有辦法制造高端光刻機。為什麼?

目前我們要製造高端光刻機所需周邊產業鏈不能滿足要求,需要高精尖的光源、高精度軸承、反射鏡片等等,這些部件ASML也得要從歐美日等公司採購,資金和技術也要依賴於他的大客戶如三星、英特爾、臺積電等。但這些高精尖的零部件,歐美日又是對我們禁運獲取不到了,我們只有從自己的產業鏈上進行培養,但這個培養時間可不是短期的,甚至有可能培養不起來。

如果高端光刻機一直從ASML處獲取不到,今後如果連加工高端芯片也被限制,那也就不得不從自己研發高端光刻機的方向走。可行的辦法可能是有實力的相關企業聯合起來,不但攻克高端光刻機本身研發技術,同時攻克零部件技術,也許整個產業鏈就起來了。比如華為聯合上海SMEE、中科院廣電技術研究所、以及關鍵零部件的研發企業,共同組建聯合體進行整體推進,也許我們擁有高端光刻機甚至打垮ASML也不是夢。


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東風高揚


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華為如果有能力研究光刻機的話,也不會找臺積電代工生產芯片了。你以為任何企業都能夠成為荷蘭的ASML嗎?ASML的成功在於,它聰明的將三星,英特爾,臺積電等等企業“拉到了它的陣營”,甚至可以毫不誇張的話,荷蘭的阿麥斯從來都不是一個孤零零的企業,它是全球智慧的結晶!

光刻機的複雜程度

我們對於光刻機的瞭解,可能在於它是生產芯片中的重要一環。但是,它到底怎麼製造,到底有什麼技術難度呢?這裡面我們可以瞭解下。

一臺光刻機中有太多內容了,從測量臺、曝光臺,到激光器、光束矯正器、能量控制器、光束形狀設置、遮光器、掩模版、掩膜臺等等多項內容。

在這些零部件的組合下,光刻機需要通過將光束透射過畫著線路圖的掩模,並且將線路圖映射到硅片上,在經過過清洗烘乾、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對準曝光、後烘、顯影、硬烘、激光刻蝕等等。

而為了能夠形成對於芯片的光刻,並且不斷挑戰摩爾定律,ASML需要不斷的加強,對於光科技技術的提升。也正是因為在技術方面的提升,它需要向德國蔡司提供的鏡頭,也需要美國公司供應的光源……

可以說,ASML光刻機真正的體驗了全球化大生產的功績。而,這些恰恰是華為目前所欠缺的,因為美國的一些阻止,很多企業放棄了和華為的合作,而在這種情況下,華為想做到光刻機,它就必須要自給自足,然而所需要投入的人力財力,遠遠大於我們的想象。



阻止,不會催生新的競爭對手

對於荷蘭阿麥斯來說,是不願意去是催生新的競爭對手,為什麼將三星海力士英特爾等公司拉入到自己公司中,成為阿麥斯的股東之一?除了獲得先進的技術支持之外,還有一個最關鍵的因素是不想讓其他的企業成為阿麥斯的競爭對手。

其實我們知道像佳能,尼康,這些企業都是目前在光刻機領域有所研究的企業,為什麼絕大多數的市場特別是高端市場,還是被阿麥斯給佔據呢?我們不能夠去忽略阿麥斯的這種集合眾家之長的方式。


《瓦森納協定》其中就有半導體產業這塊問題,我們被以美國為首的西方國家,進行技術出口管制,讓我們的光刻機發展困難!

華為,不需要光刻機

光刻機雖然重要,但是對於華為來說並不是主要的業務。華為主要的業務是運營商業務和消費者業務,這是它的重點,華為沒有必要從頭開始,進行光刻機的研究,且不說所需要投入巨大的人力財力,關鍵是已經在技術上落後先進的技術,即使華為想去研究,也需要花費有更長的時間。



而對於我國來說,上海微電子目前生產的90nm光刻機,和已經在發售的ASML 7nm EUV光科技有著巨大的差距,更不用說,它們已經在研究5nm,3nm工藝……

之前有消息稱,武漢光電國家研究中心的甘宗松團隊,成功研發利用二束激光,生產9nm工藝製程的光刻機。當然,這件事到底成分多少,我們只能期待,其實未來中國光科技的發展一定要另闢蹊徑。

我相信我們一定能夠解決光刻機的束縛,雖然說華為不可能去生產光刻機,但是有很多默默無聞的企業正在不斷前行。


LeoGo科技


以華為的研發能力,華為只要某個領域介入就能做出來並且最差也能世界前三!!!!!!華為七代機,核動力航母都在研發中!!!光刻機華為的技術也已經可以媲美ASML了吊打佳能尼康!!!華為要是把研發成果全部公佈的話至少可以拿100位諾貝爾獎!!!華為牛逼不上市,如果上市的話市值可以超過美國GDP!!!


小馬哥1856


目前在我國光刻機研製、生產領域最強的是:

中科院光電所研發出365納米波長,曝光分辨率達到22納米的光刻機,是近紫外的光線,離極紫外還有一點差距。光刻機的波長決定了芯片工藝的大小,波長越短,造價越高。像荷蘭ASML公司最先進的EUV極紫外光刻機,波長只有13.5納米,可以生產10nm、7nm的芯片。


跪射俑


答:有。理由三方面:(1)華為有骨氣。美國以一國之力,動員全球同盟力量打壓華為,華為以一企的卑微仍然保持著“大雪壓青松,青松挺立直”的昂揚姿態屹立於世,有這樣有骨氣,是任何力量都壓不跨的,即使美國重重封鎖,華為終究“絕地反擊”,自己研究出光刻機。(2)華為有實力。如今的華為,資產雄厚,富可敵國,又廣攬人才,集天下之英才為己用,帷下數學家、化學家、物理學家等成千上萬,一旦決定自己研發,財力人力足以保障。(3)華為有靈魂。華為公司有“狼文化”,集團上下團結一心,個個想建功立業,敢於與強手競爭並立於不敗之地,其自立自強的不服輸精神世人皆知,沒有什麼不可戰勝也。


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