關勃：昨天，給大家分享了一下了半導體領域CIS、DRAM、IGBT及射頻濾波器的基本面情況及相關龍頭企業。
今天繼續跟大家聊聊半導體其他關鍵的細分領域的基本面邏輯。今天給大家分享的四個領域分別是模擬IC、光刻膠、薄膜沉積設備和刻蝕設備，我將就圍繞其基本邏輯、市場規模、競爭格局及國內龍頭企業，簡單談談這4個細分領域。
01模擬IC
模擬IC主要分為由電源管理、信號鏈路兩大模塊組成，其在消費電子、無線通訊、電腦、汽車、工業上均有比較廣泛的運用。
模擬IC的邏輯：
1. 政策上，國內集成電路在2020年實現40%的自給率目標，但在2017年，模擬IC自給率還不到10%。因此，政策預期下，模擬IC國產替代急迫性較強。
2.國內企業切入難度相對小：由於其技術特徵，模擬IC競爭格局相對較為分散，在2017年全球前三大龍頭市佔率僅33%，且國內消費電子、無線通訊、電腦、汽車、工業等領域應該市場空間大，環境上易於國內企業切入。
3.需求持續性強：
短期需求看通訊：基站端：此5G宏基站建設數量為4G宏基站的1.5倍左右，接下來兩三年都是基站建設高峰期，模擬IC電源管理和射頻電路需求增加；5G手機終端前端射頻價值從4G的18美元提升到25美元左右。
長期需求：汽車模擬IC需求上升，據統計，純電動車半導體價值量在719美元左右，其中四分之一為電源管理IC，電動車是未來全球的趨勢，這一塊會帶動電源管理IC未來的增長。據機構預測，2020年模擬IC佔汽車半導體需求的29%，市場規模114億美元。
模擬IC國內龍頭企業：聖邦股份。
02光刻膠
光刻膠是半導體上游晶圓製造的重要材料，其應用在光刻步驟中，質量和性能直接決定集成電路的性能、良率。
光刻膠2019全球市場規模在17.7億美元左右，由於該領域技術壁壘和客戶壁壘都比較高，因此該領域市場份額的集中度是比較高的，主要的供應商來自日本企業，前五大企業佔比近8成：
光刻膠主要企業集中在日本
但是，國內在光刻膠的需求用量上佔到了全球的三分之一，但卻幾乎全部依賴進口，這裡存在著較大的供需矛盾。
替代趨勢漸起：
目前光刻膠技術產品上主要有四種類型：g線、i線、KrF、ArF四類光刻膠，未來高端趨勢為EUV光刻膠。目前國內企業在ArF和KrF的研發在順利進行中，完成客戶驗證後，將進入國產替代高峰期。
光刻膠國內龍頭企業：晶瑞股份、南大光電。
目前主要光刻膠技術進展如下（蘇州瑞紅衛晶瑞股份子公司）：
03薄膜沉積設備
在製作工藝上，光刻後將進入薄膜層積工藝，薄膜沉積是指任何在硅片襯底上沉積一層膜的工藝，這層膜可以是導體、絕緣物質或者半導體材料。
薄膜沉積設備是半導體上游晶圓製備的核心設備，沉積工藝有：真空蒸發、濺射、化學氣相層積、電鍍。對應的設備主要為濺射PVD、化學氣相層積CVD和其他層積設備。其三者合計佔據晶圓製造設備投資佔比的22%，成為最大的設備投資項之一。
2018年沉積設備佔比達到22%
在薄膜沉積設備目前的競爭格局來看，應用材料、阿斯麥、東京電子和泛林半導體這四家公司在全球競爭力較強，市場大：
全球半導體設備競爭格局（2018年數據）
目前海外龍頭企業依然處於領先位置，不過在2018年開始，國內企業在該設備上也開始獲得訂單，長江存儲在2018年的訂單中，可以看到
北方華創和瀋陽拓荊的身影。
長江存儲沉積設備訂單
國內薄膜沉積設備龍頭企業：北方華創、中微公司（參股瀋陽拓荊）。
04刻蝕設備
在經過薄膜沉積後，需要用到刻蝕設備，刻蝕是用化學或者物理方法將晶圓表面不需要的材料逐漸去除的過程，以確保芯片電路與光掩模版上的芯片電路保持一致，是半導體上游設備工藝中的核心環節。
刻蝕設備在2018年半導體設備投資中佔比在26%左右，以2018年半導體設備645億美元來測算，2018年刻蝕設備投資規模就有155億美元，是半導體設備領域中較大的蛋糕。預計2019年-2020年該領域投資空間依然會進一步增長。
刻蝕具備極強的技術壁壘，目前這塊大蛋糕主要被泛林半導體、東京電子、應用材料這三家海外公司所瓜分，在2017年，三家公司合計市場份額高達94%。
2017年刻蝕設備競爭格局
但國內企業近年來也有所發展，國內主要企業為中微公司和北方華創，在長江存儲訂單中，在2018-2019年一共中標81臺刻蝕機，其中中微半導體和北方華創分別中標12臺和3臺，國內企業也逐漸開始發展，但距離國際技術水平和訂單規模依然有較大的趕超空間。
整理一下，以上四個領域的龍頭企業如下：
今天又給大家分享了一下半導體上游細分領域的一些基本面情況和龍頭企業，如果你覺得有所收穫，麻煩大家點贊。
本文由北京中和應泰財務顧問有限公司上海分公司 投資顧問 關勃（執業編號：A0150614050001）編輯整理。內容僅供教學參考，不構成投資建議。股市有風險，投資需謹慎。
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