IBM首次揭祕!芯片尺寸不變,怎樣將緩存密度提升80%?


IBM首次揭秘!芯片尺寸不變,怎樣將緩存密度提升80%?

智東西(公眾號:zhidxcom)編 | 雲鵬

智東西3月9日消息,據外媒報道,近日IBM大型商用服務器z15的物理設計(physical design)團隊負責人Christopher Berry表示,通過對緩存位線、字線、陣列、供電等方面的調整,他們將z15 SC芯片的總有效緩存密度提高了80%。

2019年下半年,IBM推出了最新的z15大型商用服務器。z15的SC芯片在製程工藝沒有改變,核心面積沒有增加的情況下,實現了14%的單核性能提升和20%的核心數量增加,同時,芯片的L2緩存增加33%,L3緩存翻倍,L4緩存增加43%。

在2020年2月舉行的ISSCC會議上,z15物理設計團隊負責人Christopher Berry分享了有關緩存性能優化的一些細節問題。

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▲z15結構圖

z15中單個SC芯片的L4緩存為960 MiB,相比z14增加了43%,L3緩存從128 MiB翻倍至256 MiB,L2緩存也提升到4 MiB。但最值得注意的是,IBM是在保持相同芯片面積和製程工藝的前提下實現了這些性能的提升。

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▲z15與z14的SC芯片對比

與z14一樣,z15採用與格羅方德(GlobalFoundries)共同定製的14納米FinFET on SOI工藝製成。通過該工藝IBM可以生產出超高密度的DTC eDRAM,這也是IBM十幾年來的秘密武器。

該工藝具有超高密度DTC eDRAM。十多年來,eDRAM一直是IBM的秘密武器。即使採用的是14納米工藝,eDRAM的單元尺寸也達到了0.0174μm²。目前,臺積電使用尚未量產的5納米工藝所能製成的最密集的SRAM單元,其尺寸為0.021μm² 。

這意味著IBM的14納米eDRAM單元的密度比迄今為止最密集的5納米SRAM單元還要高大約20%。

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▲全球先進緩存製程工藝概覽

IBM物理設計團隊通過對z14進行改進,使得z15可以在相同面積內,將位線和字線(bitlines and wordlines)的長度加倍。

z14用於L3和L4緩存的原始eDRAM宏塊為1 MiB,由16個子陣列組成。每個子陣列包含128個字線和592個位線。而z15的原始eDRAM宏塊為2MiB,由8個子陣列組成,每個子陣列具有256個字線和1184個位線。

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▲z15原始eDRAM宏塊與z14的對比

位線加倍會使電容加倍,從而削弱位線信號。為此,設計團隊降低了nFET閾值電壓,並引入了偏置電路以改善信號值。

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▲z15 L1、L2、L3、L4緩存參數

為了進一步節省空間,IBM調整了緩存的電源傳輸網絡。z14的高壓產生電路是集成在芯片上。而在z15上,他們將這些電路置於片外。

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▲z15高壓產生電路與z14的對比

位線和字線的加倍以及子陣列的數量減半意味著可以在陣列內減少相當多的I / O接口。團隊預計這些調整大約帶來了30%的密度提升,而與供電相關的變化又使密度提升了約38%。總體而言,物理設計團隊設法將總有效緩存密度提高了80%。

文章來源:WikiChip Fuse


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