臺積電急了!中芯“N+1”成功繞過光刻機,這次華為穩了


芯片是當前人類最高科學技術的結晶,芯片技術的水平也代表了這個國家的發展水平。而一款芯片的產出少不了兩個主要步驟,一個是設計,一個是製造。

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芯片的設計很難,既需要時間、金錢的投入,也需要龐大的人才儲備。目前全球排得上號的芯片設計公司就那麼幾家,還大部分都是美國公司,好在我國華為公司臥薪嚐膽,早早的就構建了一個龐大的研發系統完成了麒麟芯片的設計。

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根據華為創始人任正非透露,在這個系統裡面包括至少有700多個數學家,800多個物理學家,120多個化學家,以及6000多位專門基礎研究的專家和6萬多名工程師。

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然而雖然設計完成了,但是在製造這一步卻卡住了,因為受制於核心設備光刻機,我國大陸並沒有全球頂級的芯片製造公司,

華為的芯片訂單幾乎全部依靠臺積電。

和芯片一樣,最新版本的光刻機也是人類最高科學技術的結晶,如果僅僅說它是一臺製造芯片的設備並不恰當,因為光刻機的本質是頂尖科學技術的集成體,最新版的EUV極紫外光刻機只有荷蘭ASML公司能夠製造。

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為什麼只有ASML公司能夠製造呢?其實很簡單,得益於其奇特的經營模式,荷蘭ASML公司本身就是一個十分龐大混雜的企業。根據ASML公司的規定,只有投資ASML,才能夠獲得優先供貨權,簡單來說就是

想要獲得ASML的光刻機,那麼就得先成為該公司的股東。

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可以這麼說,全球大半個半導體行業都是ASML的合作伙伴,包括英特爾、三星、臺積電、海力士等半導體巨頭都是ASML的股東。因此嚴格說起來,光刻機並不是ASML公司一家的產品,而是大半個半導體行業共同努力的成果。

也正因為光刻機幾乎是整個半導體行業的結晶,所以此前荷蘭ASML公司的總裁才自信的判斷:“

中國永遠不可能模仿出世界頂級的EUV光刻機”。

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然而在近日,我國中芯國際卻宣佈了一項新的技術,採用自研的“N+1”工藝,可以繞過光刻機,對14nm芯片進行改造!

改造之後的14nm芯片將比原來的功耗降低57%,邏輯面積小63%,SOC面積減少55%,這換算下來,正是7nm芯片的數據,雖然是通過“N+1”工藝作出的是“偽7nm芯片”,但這也意味著,

中芯國際已經正式成為全球第三家掌握10nm以下工藝的芯片企業。

而如果ASML公司能夠將此前“欠下”的EUV光刻機發給中芯國際,那麼加上“N+1”工藝,在代工技術上將會瞬間超過臺積電。與之相對的,華為也就不必再擔心會被臺積電斷供!

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在3月底的時候,根據外媒報道,美國方面已經同意採取新措施,限制華為芯片在全球的供應,譬如禁止華為芯片最大的供應商臺積電繼續向華為供貨。對此華為董事長徐直軍的回應是,

就算臺積電斷供,也可以選擇和三星、聯發科合作

不過同時徐直軍也表示絕對不會任人宰割,如果美國真的限制臺積電對華為芯片銷售,那麼中國市場也不會坐視不理,可能會考慮禁止美國相關產品。

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當然,由於疫情嚴重,目前荷蘭公司已經開始考慮採用俄專家的建議,用EUV光刻機換取中國的口罩。

如果真的成功,那麼這將會是繼“方便麵換飛機”之後又一次偉大的“口罩外交”,而華為也將徹底不用擔心芯片會被斷供了!

對此,你怎麼看呢?


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