台积电急了!中芯“N+1”成功绕过光刻机,这次华为稳了


芯片是当前人类最高科学技术的结晶,芯片技术的水平也代表了这个国家的发展水平。而一款芯片的产出少不了两个主要步骤,一个是设计,一个是制造。

台积电急了!中芯“N+1”成功绕过光刻机,这次华为稳了

芯片的设计很难,既需要时间、金钱的投入,也需要庞大的人才储备。目前全球排得上号的芯片设计公司就那么几家,还大部分都是美国公司,好在我国华为公司卧薪尝胆,早早的就构建了一个庞大的研发系统完成了麒麟芯片的设计。

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根据华为创始人任正非透露,在这个系统里面包括至少有700多个数学家,800多个物理学家,120多个化学家,以及6000多位专门基础研究的专家和6万多名工程师。

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然而虽然设计完成了,但是在制造这一步却卡住了,因为受制于核心设备光刻机,我国大陆并没有全球顶级的芯片制造公司,

华为的芯片订单几乎全部依靠台积电。

和芯片一样,最新版本的光刻机也是人类最高科学技术的结晶,如果仅仅说它是一台制造芯片的设备并不恰当,因为光刻机的本质是顶尖科学技术的集成体,最新版的EUV极紫外光刻机只有荷兰ASML公司能够制造。

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为什么只有ASML公司能够制造呢?其实很简单,得益于其奇特的经营模式,荷兰ASML公司本身就是一个十分庞大混杂的企业。根据ASML公司的规定,只有投资ASML,才能够获得优先供货权,简单来说就是

想要获得ASML的光刻机,那么就得先成为该公司的股东。

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可以这么说,全球大半个半导体行业都是ASML的合作伙伴,包括英特尔、三星、台积电、海力士等半导体巨头都是ASML的股东。因此严格说起来,光刻机并不是ASML公司一家的产品,而是大半个半导体行业共同努力的成果。

也正因为光刻机几乎是整个半导体行业的结晶,所以此前荷兰ASML公司的总裁才自信的判断:“

中国永远不可能模仿出世界顶级的EUV光刻机”。

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然而在近日,我国中芯国际却宣布了一项新的技术,采用自研的“N+1”工艺,可以绕过光刻机,对14nm芯片进行改造!

改造之后的14nm芯片将比原来的功耗降低57%,逻辑面积小63%,SOC面积减少55%,这换算下来,正是7nm芯片的数据,虽然是通过“N+1”工艺作出的是“伪7nm芯片”,但这也意味着,

中芯国际已经正式成为全球第三家掌握10nm以下工艺的芯片企业。

而如果ASML公司能够将此前“欠下”的EUV光刻机发给中芯国际,那么加上“N+1”工艺,在代工技术上将会瞬间超过台积电。与之相对的,华为也就不必再担心会被台积电断供!

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在3月底的时候,根据外媒报道,美国方面已经同意采取新措施,限制华为芯片在全球的供应,譬如禁止华为芯片最大的供应商台积电继续向华为供货。对此华为董事长徐直军的回应是,

就算台积电断供,也可以选择和三星、联发科合作

不过同时徐直军也表示绝对不会任人宰割,如果美国真的限制台积电对华为芯片销售,那么中国市场也不会坐视不理,可能会考虑禁止美国相关产品。

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当然,由于疫情严重,目前荷兰公司已经开始考虑采用俄专家的建议,用EUV光刻机换取中国的口罩。

如果真的成功,那么这将会是继“方便面换飞机”之后又一次伟大的“口罩外交”,而华为也将彻底不用担心芯片会被断供了!

对此,你怎么看呢?


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