ASML的光刻機和氫彈哪一個更難研製？

1.首先明確，光刻機本身不難搞，原理跟投影儀差不多，但是最頂級的光刻機確實很難搞。其實在我研究那會兒，基本上只有兩個國家三個公司能做最頂級的光刻機。國家一個是歐盟一個是日本，公司則是asml、尼康、佳能。（就跟華為不是個手機公司一樣，尼康和佳能可不是簡單的相機公司）最近幾年，尼康和佳能都逐步掉隊了，asml獨領風騷。

2.技術上，頂級光刻機太“精細”了，相比較而言，氫彈要“大黑粗”一些。有一個事情令我印象很深，我們曾接待過尼康的技術總師，聽過他講解尼康技術的發展史，我們無不為日本人的嚴謹和研究深度所折服。事後我們常說怪不得日本人搞光刻機搞得這麼好，怕是跟嚴謹的民族風氣有關。尼康公司尚且如此，asml自不必說。

3.投入產出上，頂級光刻機投入大、見效慢、效果存疑，相比較而言，氫彈很“立竿見影”。氫彈的投入產出比我們都比較瞭解，前面很多回答也都提及了。但是頂級光刻機則不然，投入太大太寬泛，需要各交叉學科和各應用工程領域的大量投入，研發週期太長（我們距世界頂級水平的差距太大），結果學界還都在懷疑傳統光刻機已經發展到頭了，再追加投入不如另闢蹊徑彎道超車。事實上，我也感覺國家對光刻機研發的支持力度確實不太大。

4.補充：評論中很多人糾結彎道超車是否正確的問題，我表達我的意見：就光刻機來講，某種程度上我同意國家支持力度不大，期待彎道超車的思路。

因為目前看來傳統光刻機快發展到頭了，我們都知道芯片業的摩爾定律（芯片性能每年翻倍）已維持不住了，維持不住的重要原因就是光刻機發展的停滯，光刻機發展停滯的根源則是基礎物理發展的停滯。至於未來該怎麼辦，我們也很迷茫啊。所以用不大不小的投入，維持著我們的光刻機不要掉隊，期待未來新的技術突破，或許這就是一條性價比最高的路。