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众所周知，我国由于历史原因，半导体产业发展比较落后，芯片主要依赖进口。然而经过近几年发展，我国华为在芯片设计领域已经处于全球领先水平，华为的麒麟处理器无论在性能和功耗上面，完全不输于高通处理器，甚至比高通处理器还要优秀！但高端芯片生产还得由台积电代工。
尽管我国中芯国际已经能量产14nm芯片，还自主研发了N+1工艺，完全可以达到7nm制程。但差距还很明显，关键就在于芯片制造设备不到位。芯片制造设备重点就是光刻机和蚀刻机。先进的7nm光刻机，现在只有菏兰ASML能生产，但因美国阻挠，迟迟不能到位。而蚀刻机已经被我国成功突破。
近日，上海传来好消息，中微5nm蚀刻机正式面世，并已通过台积电验证，计划在今年用于台积电5nm芯片的生产中。目前其生产的7nm刻蚀机已经用于台积电的芯片制造中，像麒麟980、高通855，苹果A12背后，都少不了它的身影。中微半导体的5nm蚀刻机，可以说是继华为5G之后，完全自主研发的顶尖技术。如果美国继续打压华为，这个或可作为反制利器。
光刻机和蚀刻机一直都是当前最热的话题，相比光刻机的重视程度，大家对刻蚀机的了解可谓是非常少。作为芯片生产环节中必不可少的设备，可以说光刻机是芯片制造的魂，蚀刻机是芯片制造的魄，要想制造高端的芯片，这两个东西都必须顶尖。光刻机把电路图投影到覆盖有光刻胶的硅片上面，刻蚀机再把刚才画了电路图的硅片上的多余电路图腐蚀掉，相对光刻来说，刻蚀要简单的多，但要将精度要求提升到5nm，那也是相当不容易的。
我国再次领先世界，成为了全球第一个可以自主生产5nm蚀刻机的国家，而这一切其实都要致敬一个人，他就是中国第一代科研人尹志尧博士。2004年，年近60岁的尹志尧博士，带领众多优秀海归人才，回国创办了中微半导体公司，在团队对科技的不断探索下，短短10多年的时间，就攻破了5nm蚀刻机的瓶颈，让中国科技再一次实现了反超越！
结语：然而，目前我国光刻机和蚀刻机的发展很尴尬，属于严重偏科，中微半导体5nm蚀刻机已经迈入世界一流行列，而我国光刻机才能达到90nm，与世界最先进的7nm制程都相去甚远，在这两条道路上，蚀刻机要再接再厉，而光刻机则需要迎头赶上。相信随着5G技术、5nm蚀刻机的引领，国内芯片企业共同努力，不久的将来，我国国产半导体行业一定会崛起！
那么，大家对我国中微5nm蚀刻机领先世界，是怎么看的呢？
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