半導體的製造中會用到大量的化學品及氣體，包括酸類、鹼，有機及顯影液，這些不能直接排放到大氣中，如何處理呢？今天就來介紹酸、鹼性廢氣的排放處理。
半導體制造中產生的酸性和鹼性廢氣採用分別收集、分別處理的方法，但處理設備和處理原理基本相同。對於含有酸性／鹼性物質的廢氣，半導體廠大都採用大型洗滌式中央廢氣處理系統進行處理 。由於半導體制造工作區域離中央廢氣處理系統距離較遠，因此部分酸性／鹼性 廢氣在輸送至中央廢氣處理系統前，常因氣體特性導致在管路中結晶或粉塵堆積，造成管路堵塞後導致氣體外洩，嚴重者甚至引發爆炸，危害現場工作人員的工作安全 。因此在工作區域需配置適合製程氣體特性的就地廢氣處理設備（local scrubber）進行就地處理後再排人中央處理系統，而一些特殊的廢氣，包括劇毒、自燃、易爆等廢氣則需要先通過乾式洗滌塔等設備通過吸附或氧化／燃燒等方法（如PECVD尾氣）就地處理，再排入中央廢氣處理系統。
中央廢氣處理系統的核心設備是一種採用水洗式的洗滌塔，它的主要功能是通過控制洗滌塔中循環水的酸鹼度、電導度等參數，在廢氣與水交叉流過時使廢氣在洗滌塔中與水進行充分接觸，吸收其中的酸性或鹼性物質。
洗滌塔內安裝有填料床，用於增大廢氣與水的接觸面積 ，延長接觸時間。填料床下面是循環水池，通過循環水泵使液體不停的循環。還設有加藥泵、pH計用於控制pH值 ；液位計、電導度計用於排水和補水控制；壓差開關、壓力傳感器用於監控系統的運行情況。通過調整酸性排氣洗滌塔循環水的pH值發現，淋洗塔內的物理吸收是一個不穩定的可逆，吸收水中的酸，並在淋洗過程中很容易再被脫附出來 。
填料
當 pH低於 7.6時 ，即使將循環水的電導度調至低於 5 mS／cm，系統的處理效率仍然不超過60％；而當pH值高於8時，系統處理效率通常高於90％；當 pH值達到10時，系統處理效率甚至超過99％。因此控制pH值是保證系統處理效率的關鍵參數,雖然酸性排氣洗滌塔，pH值越高處理效率越好 ，但實際運行中pH過高會增加運行成本，並會產生結晶等問題，危及生產安全,因此pH值通常控制在pH8～pH10。同樣，對於鹼性排氣洗滌塔，pH值通常控制在pH3～pH6。
在系統實際操作運行中發現,影響系統處理效率的另一個主要因素是循環水量的問題。洗滌塔在連續運轉一定時期後 (一般為 6個月)開始出現處理效率下降，即使調高pH值也收效甚微,原因在於洗滌塔循環水中的鹽類很容易在噴嘴處形成結晶,造成堵塞,使循環水量下降，而水量不足使得廢氣和水不能充分接觸，因而影響系統的處理效率。因此運行中要把洗滌塔循環水的電導度嚴格控制在 20mS/cm 以下，減少鹽類堵塞噴嘴的情況，定期對噴嘴進行清理，對循環水泵和淋洗塔進行保養，將循環水壓力控制在1.5×10^5Pa以下，保證充足的循環水量。
典型的酸鹼廢氣處理流程設備如圖:
酸鹼廢氣處理設備
酸鹼廢氣處理流程
日常保養需要檢查工作:
酸鹼洗滌塔一般是由FRP材料所製成的專業洗滌系統，對於大部分之霧狀,氣狀，液狀之酸鹼物質均有耐腐蝕之功能，此設備的外部或內部不需要任何塗裝保護，若有需要與業主的設備顏色做整體搭配的話，可進行外部塗裝。
1、塔體
在正常操作狀況下，洗滌塔本體不需任何保養，若洗滌塔在太乾燥的狀況下長期使用，容易產生汙垢，結晶鹽堆積或其它外來的問題，這些囤積物通常可用化學循環清潔劑來去除，以這個方式能將囤積物先溶解再衝刷，但是，清洗前應確定化學清洗劑不會腐蝕塔壁。
洗滌塔內外清洗時可用熱水或一般清潔劑即可，也可使用蒸氣清洗，清洗方式是將蒸氣充滿洗滌塔內部，但是使用蒸氣不要超過半小時。
2、噴灑系統
噴嘴至少三個月檢查一次，若有阻塞物須清理乾淨。
3、循環水系統
循環泵過濾器(通常為過濾網二道)至少每星期清潔一次(或視情況減少天數)，避免因雜質過濾不乾淨而阻塞噴嘴。
循環洗滌水至少每星期更換一次，以避免水中之鹽類濃度過高影響處禮理效果，且可減少雜質阻塞過濾網。
4、PH控制器校正
不超過1－2個星期校正一次,使用標準校正液，pH值為7.00和4.00。
注：
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