細分濺射靶材研究內參和龍頭標的

細分濺射靶材研究內參和龍頭標的

最近股市上面最熱鬧的就是中美貿易大戰了,中美貿易大戰會在特朗普當政期間不斷的摩擦,但是在股市上面的反應就是影響一時不能扭轉當前中國股市應要發展的趨勢.

最近有不少朋友跟我交流,目前的股市很難做,結構化差異和分化非常厲害,甚至有朋友說比去年2017年還難做,有的人抓住了一些所謂的價值超級品牌股票收益還不錯,但是由於這些超級品牌去年大幅溢價,今年至今大多在高位調整,包括去年火爆的鋰電池新能源上游材料,醫藥行業,基因生物,大銀行等.

今年有人說是價值龍頭和科技龍頭的匹配投資,這話大家認為有沒有道理?恐怕是智者見智仁者見仁的問題了,從2018年年初開始啟動的新科技板塊一直就是2018年上半年的重頭戲,像火熱的5G,芯片半導體,集成電路,包括一些高科技上游材料,但是,這些機會板塊的啟動挖掘和佈局是在年前就要佈局的,而不是2018年過完年之後已經啟動了你再去佈局,那個時間不論是時間還是空間你都不好判定了.

今日主要研究細分濺射靶材的深度研究,估計要分幾個章節完成.

“靶”關之材，國家級戰略產業

濺射靶材是薄膜製備的關鍵原料

濺射是製備薄膜材料的主要技術之一，它利用離子源產生的離子，在真空中經過加速聚集，

而形成高速度流的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發生動能交換，使固體

表面的原子離開固體並沉積在基體表面。被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料，稱

為濺射靶材。

濺射靶材廣泛用於半導體、顯示、磁記錄、光伏等領域

靶材製造和濺射鍍膜是靶材製備的關鍵環節。濺射靶材產業鏈主要包括金屬提純、靶材制

造、濺射鍍膜和終端應用等環節。其中，靶材製造和濺射鍍膜環節是整個濺射靶材產業鏈

中的關鍵環節。

全球靶材市場穩步增長，市場集中度高

預計2016-2019 全球靶材市場增速達13%

根據全球半導體貿易統計協會（WSTS）數據，2016 年全球濺射靶材市場容量達113.6

億美元，相比於2015 年的94.8 億美元增長20%。全球半導體貿易統計協會（WSTS）預

測2016-2019 年均複合增長率達13%，到2019 年全球高純濺射靶材市場規模將超過163

億美元。

半導體、顯示、太陽能三大應用成為靶材需求增長主要驅動力。2016 年全球靶材市場的

下游結構中，半導體佔比10%、平板顯示佔34%、太陽能電池佔21%、記錄媒體佔29%，

靶材性能要求依次降低。

濺射靶材企業集中度高，主要企業佔據80%全球市場

濺射靶材企業集中度高，

日礦金屬（日本）、東曹（日本）等跨國集團為代表的濺射靶材生產商較早涉足該領域，

經過幾十年的技術積澱，憑藉其雄厚的技術力量、精細的生產控制和過硬的產品質量居於

全球濺射靶材市場的主導地位，2017 年佔據約80%市場份額。

國內電子和材料產業政策扶持靶材產業鏈發展。近年來，為推動靶材產業的發展、增強技

術創新能力，國家先後出臺了多項專項政策和資金支持措施。國家產業政策、研發基金的

出臺和落實，為濺射靶材行業的快速發展營造了良好的環境。

國內濺射靶材主要龍頭標的梳理

江豐電子（300666）：國內半導體濺射靶材龍頭，成功打破國外壟斷

國內高純濺射靶材行業龍頭。公司主營業務為高純濺射靶材，是國內材料最齊全、工藝最

完整、設備能力最強、產能最大的超高純度金屬材料及濺射靶材生產基地。公司主要產品

包括鋁靶、鈦靶、鉭靶、鎢鈦靶等，作為製造超大規模集成電路芯片、液晶面板、薄膜太

陽能電池的PVD 電子薄膜原料，主要應用於半導體、平板顯示器及太陽能電池等領域，

已成為中芯國際、臺積電、格羅方德、意法半導體、東芝、海力士、京東方、SunPower

等國內外知名廠商的高純濺射靶材供應商。

半導體濺射靶材新秀，成功打破美、日壟斷。在以半導體應用為主的高端靶材領域，公司

成功打破美國、日本跨國公司的壟斷格局，在16 納米技術節點已實現批量供貨。據公告，

公司正不斷完善和攻克28-14nm 技術節點用鉭靶、鈦靶的晶粒晶向控制技術、靶材焊接

技術、精密機械加工技術及清洗封裝技術，並積極進行客戶開發和測試。伴隨著近年來晶

圓廠的建設加速、以及2018 年底進口靶材關稅優惠取消，都將利好國內半導體靶材企業。

客戶資源優質。公司客戶資源優質，在研發、資金、技術、客戶等方面均已構築護城河。

在半導體領域，在鋁靶、鈦靶、鉭靶等方面已成為臺積電主要供應商；公司在鋁靶、鈦靶、

鉭靶、銅陽極材料方面成為中芯國際主要供應商。平板顯示領域，鋁靶產品已實現對京東

方、華星光電批量銷售。公司公告馬來西亞子公司已獲得當地項目設備進口許可證，整體

靶材焊接工廠正處於建設週期。

擴建產能，加大平板顯示用靶材佈局。2017 年公司募投建設“年產400 噸平板顯示器用

鉬濺射靶材坯料產業化項目”、“年產300 噸電子級超高純鋁生產項目”，產能穩步提升。

平面顯示是全球靶材最大的應用市場，公司憑藉半導體靶材的經驗優勢進入平面顯示靶材

領域，目前平面顯示鋁靶產品已放量，典型客戶包括京東方、華星光電等。

有研新材（600206）：雄厚材料研發實力，國內高純金屬靶材一體化供應

有研院控股企業，雄厚材料研發實力支撐。有研新材是有研院控股的有色新材料行業的領

軍企業。目前主要從事高純金屬材料、 高端稀土功能材料、 生物醫用材料、微電子光電

子用薄膜材料、紅外光學及光纖材料等新材料的研發與製備。產品主要應用於新能源及新

能源汽車、新一代信息技術、生物醫藥、節能環保等戰略性新興產業領域。

國內半導體靶材稀缺供應商，高純金屬獨具優勢。在半導體靶材領域，子公司有研億金主

打4-6 英寸靶材市場、並積極拓寬8-12 英寸靶材市場。公司依託有研控股體系多年金屬

研究經驗，在高純金屬製備方面優勢明顯；公司高純金屬靶材產業化項目擬建設8-12 英

寸半導體靶材產能約20000 塊/年。伴隨著靶材產能提升規模效應顯現，可降低公司成本。

光電半導體、光纖材料、醫療器械等產品儲備豐富。公司是紅外鍺單晶國內最大的供應商，

也是全球水平砷化鎵最大的供應商；光纖用四氯化鍺和四氯化硅產品技術領先，是國內市

場的主要供應商；在醫療器械領域，公司開發了牙弓絲、非血管支架、齒科貴金屬合金等

產品。公司已成立有研國晶輝、有研醫療等子公司，推進業務獨立專業運營。

阿石創（300706）：國內平面顯示靶材領先企業

國內PVD 鍍膜材料領先企業。公司是國內PVD 鍍膜材料領先企業，主營蒸鍍材料和濺射

靶材業務，廣泛應用於光學元器件和平板顯示領域，2013-2017Q3 毛利率保持在35%以

上。公司憑藉豐富的 PVD 鍍膜材料製備工藝，成功建立起較為全面的產品供應體系，產

品涉足平板顯示、光學元器件、節能玻璃、半導體、太陽能電池等領域。

受益平面顯示產業快速發展，新建平板顯示靶材產能。消費升級帶動各類消費電子產品需

求增長，尤其是隨著柔性顯示技術突破、OLED 良率提升成本下降，平面顯示如LCD、

OLED 等應用大幅推廣，帶動平面鍍膜用濺射靶材需求提升。公司順應下游需求，利用募

集資金投資建設“年產 350 噸平板顯示濺射靶材建設項目”，穩步擴張平面顯示靶材產能，

並通過規模效益降低成本。

客戶資源優質，且粘性較強。經過多年積累，公司已與京東方、群創光電、藍思科技、伯

恩光學、愛普生、水晶光電等知名廠商建立合作關係。PVD 鍍膜高技術、高投入，認證周

期長達2-3 年，因此客戶粘性較高。顯示鍍膜靶材國產化率水平低，隨著平面顯示大規模

向大陸轉移平面靶材需求快速提升。

高額研發投入，積極儲備技術。公司歷年研發投入在營收中佔比保持5%左右，打造優質

研發平臺自主研發核心技術，已獲得23 項專利，9 項核心自主研發技術。同時公司積極

把握下游半導體和太陽能光伏產業的快速發展趨勢，已經研發出應用於半導體、太陽能電

池等領域的新產品。

隆華節能（300706）：環保、軍工大布局，顯示靶材成為新增長極

製冷設備領導者，加碼環保水務治理。公司是專業從事製冷設備研發、製造、銷售的高科

技企業，2016 年其核心產品製冷設備市佔率達80%，是絕對的領導者。公司2013 年10

月收購國內凝結水精處理領導企業中電加美，進入環保水處理領域。同時公司順應PPP

熱潮，與中船環境合作投資成立新疆隆華和上海隆華兩個環保平臺，藉助外部資源加速項

目落地。

收購四豐電子，佈局顯示靶材。公司2014 年底收購高端鉬靶材供應商四豐電子，正式進

軍鉬靶材領域。四豐電子在鉬靶材領域處於行業龍頭地位，產品出貨量高速增長，直接供

貨三星、LG、國星光電等顯示領頭；此外也積極佈局銅、鋁靶材等；控股子公司廣西晶聯

光電作為ITO 靶材領域先進企業，產能達60 噸/年。靶材業務成為公司新增長極。

積極參與軍民融合，佈局軍工新材料。隨著近年國家軍民融合戰略方針加速推進，促進軍

工產業升級，公司在軍工產業進行戰略佈局，2017 年9 月公司收購國內領先的船用複合

材料製造商湖北咸寧威海複合材料製品有限公司66.69%股權，是公司繼收購湖南兆恆科

技52.99%股權以來，在軍工新材料領域又一佈局。

風險提示

1. 國內半導體增速不及預期，產業快速向東南亞國家轉移。2017 年國內半導體產業增

速明顯，但2018-2020 年可能存在產業整體增速有限，並且部分下游封裝等應用向

東南亞等國家轉移，有可能削弱國內半導體產業的增速。

2. 晶硅電池成本大幅下降，薄膜太陽能電池發展不及預期。薄膜太陽能電池的光電轉換

效率提升，但同時存在投資規模大、溫度穩定性不足等問題。近年單晶硅和多晶硅電

池成本大幅降低，在一定程度上制約薄膜電池的發展。

3. CVD 方法取得技術突破或者成本大幅降低，大規模替代PVD 應用。濺射靶材主要用

於物理氣相沉積（PVD）方法制備薄膜；一旦相應的CVD 方法取得技術突破製備同

樣的薄膜材料，或者具備成本優勢，則有可能吞噬部分濺射鍍膜方法的市場空間。

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關鍵字: 射靶 有研新材 中芯國際