首先恭賀林本堅先生成為未來科學數學與計算機科學獎的首位得主。
林本堅先生出身於越南，在西貢附近長大，高三以僑生的身份到臺灣新竹中學唸書，隔年考上臺灣臺大電機系。
從 1970 年 IBM 工作算起，到 2015 年底從臺積電退休，林本堅先生總共經歷了 46 個寒暑的工作生涯，其中，在 IBM 待了 22 年，後 15 年是在臺積電渡過。
當年在整個半導體光刻行業停滯不前時，林本堅先生提出，以“水”作為介質取代傳統的“乾式光刻”，這就是現在整個半導體都在使用的“浸潤式光刻”技術。
“浸潤式光刻”技術從最初的 193 納米浸潤式光刻機從 65 納米、 40 納米一路發展到 28 納米、 20 納米、 16 納米，以及到了最新的7納米。都是關鍵突破點，現今全球90% 以上的電晶體都是採用 193 納米浸潤式光刻機所生產。
這項技術直接將臺積電的年營收從 2000 年的 50 億美元，成長將近 7 倍，目前超過 330 億美元。
他當年的這個“瘋狂想法”，造就了他一生在半導體領域不可抹滅的成就，更讓臺積電一步步走到今日足以挑戰英特爾的地位，更是極大促進了整個半導體產業的技術發展。
為表彰他在半導體、芯片和集成電路領域所做出的傑出貢獻。9月8日，2018第三屆未來科學大獎發佈會上，在堪稱“中國的諾貝爾獎”未來科學大獎中，林本堅先生獲得了數學與計算機科學獎。
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