在不久前的“科创争先锋先进事迹报告会”上，贺荣明正在分享着他对光刻机的认识与制造光刻机的艰辛。“这十五年来，我一直在研究光刻机，要说光刻机有多难，我真的有点不堪回首，我感到难以用语言来表达光刻机的难处，所以回想当年的奋力一跳，现在想想当年的勇气可能大于当年的勇气。”
许多人可能会有疑问，什么光刻机呢？这位研究光刻机多年的人又是谁呢？
光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。光刻是十分繁琐且复杂的过程。而这位研究光刻机的贺荣明则是上海微电子装备（集团）股份有限公司的董事长兼总经理。
当年，中国的光刻机技术十分匮乏，对国外的技术依赖很重。贺荣明回忆道，当他带着团队去欧洲学习时，收获的除了同行之间的技术交流之外还有许多背地里的嘲笑与不屑。更有外国专家直接出言不逊“即使给你们全套图纸，你们中国也做不出光刻机。”这样的嘲讽的话深深地刺痛了贺荣明的自尊心。
不服气的贺荣明带着团队回到国内战斗，很长一段时间他都是带着“赌气”的心态去研究去创造。很多年后，当第一台光刻机被生产出来并在IC重症领域打败竞争对手被台湾客户接受的时候，贺荣明知道这些年的坚持与付出都是值得的。台湾客户更是真诚的说出“真没想到我们中国人也能做出光刻机，我作为中国人真的感觉很自豪。”
如今，我们已完成65纳米ArF步进扫描双工件台光刻机目录和光源制造等多项任务。中国也成为了世界上第二个研制光刻机双工件台的国家。光刻机的研究也打破了荷兰ASML的垄断，光刻机的技术已无需再依赖外国。
在一次公司的干部大会上，贺荣明说到“如果我们这群人的存在和努力，可以为科技界获得外国同行的一份尊重的话，我们什么都值！”正是他的坚持与不服气，填补了中国光刻机的空白。当年那位信口开河的外国专家如今已被狠狠打脸。中国制造虽然速度还有待提高，但属于中国的自主研究与创造却永不会缺席。对此，你有什么看法呢？
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