如果說特斯拉產業鏈的希望是美國人給的，那國產芯片的希望，中國人只能自己給自己。
正逢A股泥沙俱下之時，特斯拉新晉供應商——寧德時代連續兩天逆勢大漲，搶盡風頭。但有一個“不起眼”的板塊在今天（2月4日）的反彈中一閃而過——光刻膠，中國在這個行業中有最大的市場、急切的國產化需求，也有令人欣喜的技術突破，大跌之後元氣還未恢復，實際上，光刻膠的盛宴才剛開始！
一、全球最大市場，卻牢牢掌握在美國日本手裡
對光刻膠稍有了解的朋友可能聽說過：這是一種芯片製造的關鍵材料。其實光刻膠還用在PCB（印製電路板）和LCD（顯示屏）的生產中，技術要求最低的是PCB光刻膠，最高的是半導體（芯片）光刻膠。
雖然總體行業規模不大，全球90億美元左右，但中國大陸已經成為最大的光刻膠市場，需求量世界第一，且2011年至今，中國光刻膠需求量複合增速高達11%，遠高於全球平均的5%。
這麼大一塊蛋糕，中國人自己卻吃不了，大部分錢都被美國和日本兩個國家賺去了，因為技術要求太高了。整個光刻膠行業前七大廠商（基本為美國、日本）佔據了全球95%的市場份額。其中，日本的JSR、東京應化、日本信越與富士電子材料四家就瓜分了72%的市場。
這麼重要的材料，不可能一直讓美國、日本掌控！
二、自主可控迫在眉睫！
之前的中國在光刻膠行業落後太多了，國產化程度至今仍很低。
技術要求最低的PCB光刻膠國產化率雖然已達58%，但這種光刻膠畢竟是勞動密集型產品，技術含量不高，價格一直在下降；
而在LCD領域，國產化率只有10%左右，且集中於低端LCD上，相對高端的TFT-LCD顯示屏用的光刻膠國產化率很低。
最關鍵的半導體（芯片）光刻膠，中國與美日技術差距很大，國產化率不足5%。根據技術含量不同，有g 線（436nm）→i 線（365nm）→KrF（248nm）→ArF（193nm）→EUV（13.5nm）五個級別。
為了避免老教授式的硬核表述風格，我們把這五種芯片光刻膠分別叫做小g、小i、小K、小A和小E。
小g、小i技術含量低，只能用於小尺寸的6寸晶圓，國產化率約20%。
小K能用於8寸晶圓，但國產化率只有5%。
能用於12寸晶圓的小A，國產化率為0。
如果這些型號的光刻膠能通過研發來突破，那頂尖的光刻膠——小E就難了，研發它必須有頂尖的光刻機。我們現在還造不出來，而且有錢也不能在光刻機上為所欲為。
1月6日路透社報道，中國早在2018年就向全世界唯一一家能生產頂尖光刻機的公司——荷蘭ASML採購可以用於研發小E的光刻機，但美國一直向荷蘭施壓，最終攪黃了這筆生意，今年年初採購被迫中止。
中國想生產出100nm以內的高端芯片，唯一的路是自己造光刻機了。當年老一輩用算盤造出了原子彈，這次我們條件好了千倍萬倍，相信光刻膠、光刻機兩大尖端技術，也照樣能順利攻克。
此外，未來幾年全球新增的芯片製造產能大部分集中在中國，對光刻膠的需求量將會井噴。
所以，不管是國家安全的考慮，還是市場需求，中國在半導體光刻膠上都必須自給自足，而且這個需求還很急切！
三、芯片用的光刻膠才是重點
為什麼現在要說光刻膠？畢竟醫藥、特斯拉相關的公司都更受資本市場歡迎。
看完上面這些應該有答案：自主可控+需求爆發的光刻膠主要是半導體（芯片）用的光刻膠，在較低端的PCB和LCD實現國產替代的廠商，在今天的反彈中實際不太給力，比如廣信材料、容大感光。而在稍高端的小K和小A兩種光刻膠上實現技術突破（還沒量產）的晶瑞股份、南大光電錶現尚可。
（圖：國內半導體光刻膠廠商現狀；來源：廣發證券）
這是否能說明資金已經開始關注在高端光刻膠領域的硬核芯片股了？兩家公司的光刻膠何時能爆發？現在的估值是開始還是結束？時金研究所原創
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