瀋陽拓荊科技有限公司成立於2010年4月，是由海外專家團隊和中科院所屬企業共同發起成立的國家高新技術企業。拓荊公司致力於研究和生產世界領先的薄膜設備，兩次承擔國家科技重大專項。2016年、2017年連續兩年獲評“中國半導體設備五強企業”。
公司擁有12英寸PECVD（等離子體化學氣相沉積設備）、ALD（原子層薄膜沉積設備）、3D NAND PECVD（三維結構閃存專用PECVD設備）三個完整系列產品，技術指標達到國際先進水平。產品廣泛應用於集成電路前道和後道、TSV封裝、光波導、LED、3D-NAND閃存、OLED顯示等高端技術領域。公司在北京、天津、廈門、武漢、深圳、合肥、重慶、長三角等地區都設有技術服務中心，為客戶提供每週7天，每天24小時的技術服務。
公司現有員工總數近300人，其中本科以上員工佔總數90%，碩士以上員工佔總數的41%。公司擁有國際一流的專家團隊，現有14名海外專家。公司產品擁有100%自主知識產權，現已申請專利近300項，填補了國內該技術領域多項空白，2017年公司獲評為國家知識產權優勢企業。
公司總部坐落於瀋陽市渾南區，佔地80畝，擁有現代化辦公大樓及高等級潔淨廠房，總建築面積達40,000平方米。第一期生產能力可實現年產100臺套，全部投產可達350臺套設備，支撐年產值50億元的產業規模。公司營運已通過ISO9001、ISO14001、OHSAS18001體系的認證，並擁有覆蓋全球的供應商網絡。
拓荊公司願與業界夥伴建立真誠、友好、共贏的產業合作聯盟，為中國及世界半導體產業的發展做出貢獻。
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