有的国家大功率激光技术全球领先,应最早研发光刻机,为什么光刻机却造不好?

公平正义046008


谢谢您的问题。激光技术应用领域很广,光刻机的难度远远不止激光。

我国的激光产业。我国的激光产业与国外几乎同时起步,与国外同行差距很小,目前已经形成较为完善的产业链分布,激光主要用于工业加工和光通信,主要用途是3D打印、光纤传感器。在电子、半导体领域还要进一步推广激光高精密加工技术,发展相关制造业。


光刻机不是想造就能造好的。荷兰ASML光刻机世界一流,但是它的核心零部件和技术来自于美国等多国顶尖的科技公司,有大量顶级科技公司一起控股,ASML不是独属于荷兰的,全球技术集成的结果,光刻机每一个零部件工艺和精度要求非常高,包括物镜、激光器、光束矫正器,能量控制器等,全部要特级定制,不是激光技术好,就能解决一切问题。所以ASML放心把光刻机给我们,因为它相信我们复制不出来。


国产光刻机的努力。目前我国光科技水平与国外相差三四代,只能加紧努力。国产光刻机可以利用紫外光源,制造22nm分辨率芯片,下一步瞄准10nm。首先我们要有信心,我们能制造出光刻机,但是我们也需要中科院光电所、上海微电子设备公司等领头企业,更需要培育众多尖端制造企业,集成国产光刻机。在这之前,还是要处理好与ASML等科技公司的关系,避免被卡技术脖子。
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追科技的风筝


光刻机的三大部件:顶级的光源(激光系统)、高精度的镜头(物镜系统)、精密仪器制造技术(工作台)。一看就是小日本的活:它三项中独占光学镜头和精密制造,买个激光技术就齐活了!所以,小日本在三个高端光刻机企业中占有二家,尼康和佳能,原来的神是尼康!但荷兰阿斯美买下顶级激光企业、拉上蔡司、再拉上台积电三星等,反手又把小日本干掉了[捂脸][大笑][呲牙]

中国的激光在世界上也许属于中端或中高端水平。光学镜头属于低端及中端水平,你们谁用过国产单反相机镜头,也许就一二个人,光一,可能没什么人听说!精密制造及数控技术倒是妥妥的中低端水平!

所以,中国国产光刻机是90nm,低端水平。前几天有报导,光源及双工作台都准备验收,应该可以突破45nm向22、甚至16nm冲击!

中国只有激光技术世界第一,镜头超过德国与日本,机床也超过德国与日本,中国就能生产出世界第一的光刻机!现在不行,因为上述都对中国禁运!


紫水晶9795


感谢您的阅读!

【从我国激光技术全球领先,看我国光刻机发展缓慢原因】

我们应该知道中国激光技术在全球领先,甚至排在第一位。1964年,钱学森院士提议取名为“激光”,从1961年中国第一台激光器到世界上第一所激光技术的专业研究所——中国科学院上海光学精密机械研究所的成立,而且在ICF激光驱动器、高功率化学激光器、半导体泵浦的固体激光器、超短超强激光器等等各方面都有进步,可以说我国的激光事业一直在不断进步。

可是激光≠光刻机技术

我们知道光刻机技术所需要的是——

  • 需要最精密的技术。包括德国机械工艺、蔡司镜头和美国公司提供的光源。
  • 涉及多个学科,包含了系统集成、精密光学、精密运动、精密物料传输、高精度微环境控制等多项先进技术。

  • 光刻工艺的具体步骤繁琐,需要通过硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序,不是简单的激光就能解决的。
  • “拉同伙”,实际上ASML能够成功,是因为将三星、台积电、英特尔等等共同拉入ASML 公司。

为了解决激光,ASML 收购了全球领先的准分子激光器供应商 Cymer,为了解决光刻系统,以 10 亿欧元现金入股光学系统供应商卡尔蔡司。

可以说,ASML的成功不是一蹴而就的,激光≠光刻机。

我们的制约因素,不仅仅技术

其实,影响我们的不仅仅是技术,还有技术壁垒。从《瓦森纳协议》中的影响,让我们不得不受限于技术的“限制”。很多时候不是我们不想发展,而是很多技术它是不能够进来的,在这种情况下,我们的光刻机的发展受到了非常大的限制。


在技术赶不上,又被封锁的情况下,我们确实会在光刻机方面有所欠缺。当然,我们也期盼能够在各种技术的合力下,摆脱限制,得到发展,走出一条打破光刻机技术之路。


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