美國的禁令讓華為失去了芯片供應鏈，對於華為的手機業務影響巨大，失去芯片的華為不得不賣掉榮耀，即便如此，華為的芯片問題依舊沒有得到徹底解決。雖然目前有7家芯片供應商獲得了供貨許可，但是華為所需要的5G芯片沒有得到緩解，可以說在未來很長一段時間內，華為基本上都無法從外部獲取芯片供應。
對於華為乃至整個中國半導體來說，如果想要突破卡脖子問題，就必須自己建立自己完整的芯片鏈，包括從上游的生產材料，以及芯片的設計技術以及最為關鍵的生產製造技術。而想要掌握生產芯片的技術，就避不開光刻機技術。
截止目前為止，全球能夠生產EUV光刻機的也只有荷蘭ASML一家，這意味著中國半導體想要研製出EUV光刻機是一件極為艱難的事情。但是，這是華為以及中國半導體的唯一出路，除了勝利，無路可走。
今年七月，中科院網站發佈了一則國產5nm光刻技術獲得突破的新聞，當時正值美國芯片禁令收縮，華為遭遇困境的時候，也因此讓國人看到了希望，但是隨後這條新聞被刪除。最近，有關新型5nm超高精度激光光刻加工方法的中科院研究員對此表示道，這一技術與光端光刻機採用的極紫外光刻機技術是兩碼事。
而據半導體業界人士描述，，目前國產光刻機只有180nm工藝的製造水平，，就變這樣嗎，還是在試用階段，仍然需要攻克相關技術。
而根據筆者所知，目前光刻機技術總體可以分為180nm、90nm、65nm、45nm、22nm、14nm、7nm等階段，也就是說我國目前還處於光刻機技術的末端位置。
電商部不管如何，需要認清一個真相，那就是我們的光刻機技術的確比較差勁。但是隨著華為事件的發生，都給國產半導體公司敲響了警鐘，國產的芯片製造已經被逼上了絕路，就像任正非所說，除了勝利無路可走。
因為現在全國半導體都在拼命地研發相關技術，一步步的往前走。要正視差距，同時也不能妄自菲薄，加快國產芯片供應鏈的發展。
