中國的半導體產業從改革開放以來沒有得到重視，以前都是以基建和房地產投資為主的經濟模式，直到近十年才逐步對芯片製造業提上戰略高度。
集成電路芯片
芯片製造本來就是一個大投資，長週期技術積累與創新的過程。雖然現在國家加大力度投入，但是收效甚微，最主要還是製造環節上久攻不下，現在中國第一領軍是紫光國芯，直到現在紫光的技術還只停留在28納米制程上，並且不良率還過高，良率只達到40%。現在高通，臺積電都已經向10納米，7納米進軍了，可想而知差距非常大。
堵在中國芯片製造業前面最大的攔路虎不是材料，也不是技術，而是光刻機成套設備，而世界上只有日本的尼康，佳能，荷蘭的一家，能掌握高端光刻機制造，而最好的是荷蘭的ASML公司，曾經1億美元一臺，據國內光刻機制造企業華微電子公司員工介紹，就華微的光刻機最好只能做到90納米制程，而日本的可以做到28納米以下，荷蘭的精度最高可以做14納米以下製程。那你也許會問中國為什麼不向他們購買，問題來了，因為芯片高端製造牢牢掌握在美，日，歐，幾個國家手裡，對中國進行技術和設備的封鎖。導致中國至今芯片產業遲遲得不到突破。
光刻機
光刻機跟照相機差不多，它的底片，是塗滿光敏膠的硅片。電路圖案經光刻機，縮微投射到底片，蝕刻掉一部分膠，露出硅面做化學處理。製造芯片，要重複幾十遍這個過程。
位於光刻機中心的鏡頭，由20多塊鍋底大的鏡片串聯組成。鏡片得高純度透光材料+高質量拋光。SMEE(上海華微電子)光刻機使用的鏡片，得數萬美元一塊。
ASML的鏡片是蔡司技術打底。鏡片材質做到均勻，需幾十年到上百年技術積澱。
“同樣一個鏡片，不同工人去磨，光潔度相差十倍。”SMEE總經理賀榮明說，他在德國看到，拋光鏡片的工人，祖孫三代在同一家公司的同一個職位。
另外，光刻機需要體積小，但功率高而穩定的光源。ASML的頂尖光刻機，使用波長短的極紫外光，光學系統極複雜。
3萬個機械件都要可靠
有頂級的鏡頭和光源，沒極致的機械精度，也是白搭。光刻機裡有兩個同步運動的工件臺，一個載底片，一個載膠片。兩者需始終同步，誤差在2納米以下。兩個工作臺由靜到動，加速度跟導彈發射差不多。
賀榮明說：“相當於兩架大飛機從起飛到降落，始終齊頭並進。一架飛機上伸出一把刀，在另一架飛機的米粒上刻字，不能刻壞了。”
而且，溫溼度和空氣壓力變化會影響對焦。“機器內部溫度的變化要控制在千分之五度，得有合適的冷卻方法，精準的測溫傳感器。”賀榮明說。
SMEE最好的光刻機，包含13個分系統，3萬個機械件，200多個傳感器，每一個都要穩定。像歐洲冠軍盃決賽，任何一個人發揮失常就要輸球
據華微人員介紹，光刻機最主要部件透鏡的研磨技術的不同，也會產生相差10倍的效果，荷蘭的ASML研磨技術工人祖孫三代人做同一個工位！你就不難理解光刻機技術的要求有多高，而這些技術沒有50到100年的積累，短時間很難做到精度要求的！所以說中國的芯片要想追趕高通任重而道遠，最主要是需要政府長久耐心的投入和支持！
還有據說美國芯片工程師能勝任設計製造的最多就370名，而在中國也就25人，這就需要中國的教育部門能培養出芯片設計工程師出來。這更是一個漫長的過程了！
以上就是大至中國芯片製造業現狀，要追趕和超越美日韓芯片製造水平，中國需要的時間會是非常漫長的！
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