馬薩諸塞州比爾裡卡--(美國商業資訊)--微電子行業特種化學品和先進材料解決方案領域的領導者Entegris, Inc. (NASDAQ: ENTG)日前發佈了下一代EUV 1010光罩盒，用於以極紫外(EUV)光刻技術進行大批量IC製造。Entegris的EUV 1010是與全球最大的芯片製造設備製造商之一的ASML密切合作而開發的，已在全球率先獲得ASML的認證，用於NXE:3400B等產品。
隨著半導體行業開始更多地使用EUV光刻技術進行先進技術製程的大批量製造(HVM)，對EUV光罩無缺陷的要求比以往任何時候都要嚴格。Entegris的EUV 1010光罩盒已經過ASML的全面認證，可用於他們的最新一代光刻機，並展現了出色的EUV光罩保護性能，包括解決最關鍵的微粒汙染挑戰。Entegris的EUV 1010也因此讓客戶能夠安全地過渡到最先進的光刻工藝所需的越來越小的線寬。
為了在NXE:3400B光刻機中實現上述性能，Entegris開發了用於接觸光罩和控制環境的新技術。Entegris晶圓和光罩處理副總裁Paul Magoon表示：“Entegris EUV 1010代表了缺陷率改進方面的重大突破，得益於此，先進技術製程HVM的客戶可以專注於提高效率和產量。與ASML的共同開發和測試確保了EUV 1010符合最先進的EUV光刻機的要求。”
關於ENTEGRIS
Entegris是面向微電子和其他高科技行業的特種化學品和先進材料解決方案領域的領導者。Entegris通過了ISO 9001認證，並在美國、中國大陸、法國、德國、以色列、日本、馬來西亞、新加坡、韓國和臺灣設有製造工廠、客戶服務中心和/或研究基地。更多信息請訪問www.entegris.com。
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Entegris, Inc.
Kitty Xu, +86 21 80236591
亞洲市場總監
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