“用粗刀刻細線”：中科大實現芯片技術突破，創造超分辨光刻機
說到現如今的高精尖科技，核心設備——芯片的製造絕對是難度係數最大的。而我們中國在製造芯片領域，一直都是依賴由國外進口的光刻機，不過近來中科院又為大家帶來了一個好消息，中國自主創造的最強紫外超分辨光刻機誕生了，這一技術突破意味著什麼呢？
在世界光刻機制造產業中，向來是由荷蘭的ASML、日本的尼康、佳能等這些企業實現了技術的壟斷。我們中國在芯片製造上也一直是有賴從這些國家進口他們的光刻機，但是從國外進口不僅意味著高額的成本，甚至一旦和外國產生摩擦，還有遭受他們禁運的風險，這就顯得十分被動了。
而我們中科院的羅先剛研究員和他所帶領的團隊們就一直致力於超分辨光刻機的研發，經過多年的技術投入和苦心鑽研。終於實現了基礎技術突破，為大家帶來了最新好消息，用我們中科大研發的最強紫光超分辨光刻機所製造出來的芯片可以達到22納米級別。這樣的技術難度被一位中科院研究員，詼諧的稱為“用粗刀刻細線”，這一形象的比喻，也讓大家明白了，這一技術有多難。從它問世開始，就被譽為全世界上第一臺分辨率最強的紫外超分辨光刻設備。
雖然也有不少客觀派認為，雖然我們中國創造出了可以生產如此精細芯片的光刻機，但是它也是存在著一定的技術侷限的。因為科學家們論證這一設備成果目前還只能運用在一些普通的光學領域器件當中，而ASML在整個ac製造領域中的分量我們在短期之內還是難以撼動的。但是有突破就有新的發展方向，該光刻機的製造也表明我國在芯片研發上會有更多的可能。也不會像原本一樣被動了，不僅突破了國外的技術壁壘，而且通過自主研發，我們也極大的降低了技術成本，自然也就提升了底氣。
不知道大家對我們中科大研究員們研發出的這一高科技技術成果怎麼看呢？可能許多朋友對22納米級的理解還不夠，那大家就知道這個大小相當於一根頭髮的三千六百分之一的大小就可以了。
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